鎂合金化學鍍工藝及性能.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、近年來,鎂合金被廣泛的應用于各種工業(yè)領域中,如航空航天、電工電子、汽車、石油化工等領域。鎂合金具有許多優(yōu)點:良好的導熱性與導電性、較高的比強度(抗拉強度與密度之比)、磁屏蔽性能優(yōu)良、優(yōu)良的機械加工性能等。但鎂合金在應用過程中容易受到腐蝕,即使在一些常見的工業(yè)環(huán)境中也會產(chǎn)生嚴重腐蝕,縮短其使用壽命,甚至發(fā)生斷裂。鎂合金耐腐性差的特點嚴重制約了它的發(fā)展與應用?;瘜W轉化和化學鍍層技術作為一種高效、經(jīng)濟、適應性強的防腐技術,在防腐領域中占據(jù)著重

2、要的地位,被廣泛應用于諸多領域。本文研究AM60B鎂合金在不同類型化學轉化處理后繼續(xù)化學鍍鎳-磷層的性能。
  本文主要是通過SEM、EDS、XRD和電化學試驗等方法來研究不同類型的轉化膜對AM60B鎂合金化學鍍層腐蝕行為的影響。鍍前轉化處理分別為錫酸鹽轉化膜、釩酸鹽轉化膜和磷酸鹽-高錳酸鹽轉化膜,研究它們的耐蝕機理和耐蝕效果。結果表明:三種轉化處理對后續(xù)鍍層的耐蝕性能有不同程度的提高。
  對鎂合金進行堿蝕十酸蝕預處理后,

3、錫酸鹽轉化處理獲得的半球形的MgSnO3·3H2O晶體顆粒組成的轉化膜形貌最好,耐腐蝕性能最高;無HF施鍍2h鍍層腐蝕電位-0.7263V,較有HF鍍層-1.0179V正移更大;無HF鍍液施鍍時間2h的鍍層(-0.7263V)比1h鍍層(-1.2086V)耐腐蝕性能更好。
  在Na3VO4·12H2O濃度為30g/L的溶液中浸泡10min較其它條件下形成的轉化膜,形貌最均勻、結構最致密、耐腐蝕性能改善程度最大;無HF施鍍2h鍍層

4、腐蝕電位-0.5079V,較有HF鍍層-0.4612V稍微負移;無HF鍍液施鍍時間2h的鍍層(-0.5079V)比1h鍍層(-1.0767V)耐腐蝕性能更好。
  磷酸鹽-高錳酸鹽轉化液在AM60B鎂合金表面形成一層有利于后續(xù)化學鍍的含錳轉化膜層,由含HF鍍液沉積得到的鍍層結構屬于低磷、微晶態(tài)范圍,施鍍2h腐蝕電位正移848.1mV;而在不含HF但含有NH4HF2鍍液中獲得的鍍層則屬于高磷、非晶態(tài)結構,施鍍2h腐蝕電位正移328.

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