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文檔簡(jiǎn)介
1、本文針對(duì)光控微波開關(guān)及其在可重構(gòu)天線系統(tǒng)中的應(yīng)用進(jìn)行了研究。完成了硅材料光控微波開關(guān)性能影響因素以及設(shè)計(jì)方法的研究,并提出一種利用微帶缺陷地結(jié)構(gòu)改善光控微波開關(guān)性能的設(shè)計(jì)方案,在保證開關(guān)隔離度的基礎(chǔ)上有效地減小了光控微波開關(guān)的插入損耗。此外,還設(shè)計(jì)了一種適用于認(rèn)知超寬帶通信系統(tǒng)的光控阻帶可重構(gòu)超寬帶天線,該天線可以很好的實(shí)現(xiàn)電磁干擾屏蔽和最大效率實(shí)現(xiàn)頻譜利用的作用。
第一章介紹了光控微波開關(guān)的應(yīng)用背景、優(yōu)點(diǎn)、國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀及本
2、課題所做的主要工作。與傳統(tǒng)電控微波開關(guān)相比,光控微波開關(guān)無(wú)需偏置電路,實(shí)現(xiàn)了控制信號(hào)與射頻信號(hào)的良好隔離,避免了金屬偏置電路的電磁干擾,在可重構(gòu)天線系統(tǒng)的應(yīng)用中有著良好的前景。
第二章首先對(duì)光控微波開關(guān)的基本工作原理——光電導(dǎo)效應(yīng)及其相關(guān)的理論知識(shí)進(jìn)行了介紹,并針對(duì)光控微波開關(guān)建立了等效電路模型和分層等離子層模型兩種電磁仿真模型,以便對(duì)影響其性能的關(guān)鍵因素進(jìn)行理論分析。
第三章采用建立的電磁仿真模型對(duì)光控微波開關(guān)的性
3、能影響因素進(jìn)行了較為全面的分析,以此為指導(dǎo)完成了半導(dǎo)體材料、照射光源功率、照射光源中心波長(zhǎng)和微帶間隙尺寸的選擇,設(shè)計(jì)出了硅材料的光控微波開關(guān)。為了改善光控微波開關(guān)的性能,本章還提出了一種利用開口諧振環(huán)缺陷地結(jié)構(gòu)改善光控微波開關(guān)插入損耗的思路,仿真和實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,加入缺陷地結(jié)構(gòu)后光控微波開關(guān)的插入損耗有了明顯的降低同時(shí)其隔離度并未出現(xiàn)惡化。
第四章介紹了光控微波開關(guān)在可重構(gòu)天線中的應(yīng)用,并設(shè)計(jì)了一種適用于認(rèn)知超寬帶通信系統(tǒng)的光控
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