多通道濾光片制備中的光吸收器及Lift-Off光刻工藝研究.pdf

1、在現(xiàn)代光學(xué)信息技術(shù)中，多通道濾光片在遙感探測、彩色顯示、圖像采集等方面有著廣泛的應(yīng)用。在這些應(yīng)用中常常需要小型化、集成化的多通道濾光片，而基于金屬掩膜法或拼接法的傳統(tǒng)工藝難以制作這類濾光片。因此如何制作高精度的多通道濾光片成為一個亟待解決的問題。本文圍繞著多通道濾光片中的關(guān)鍵技術(shù)展開，主要研究內(nèi)容包括:
　　金屬-介質(zhì)光吸收膜的設(shè)計與制備。光吸收鍍膜在雜散光抑制、紅外光熱探測、太陽能光熱轉(zhuǎn)換等方向有著廣泛的應(yīng)用。本文基于金屬-介質(zhì)

2、結(jié)構(gòu)設(shè)計了可見光波段的光吸收膜，采用單純形算法和模擬退火算法合成并優(yōu)化膜系結(jié)構(gòu)。此外還基于蒙特卡諾法進一步分析了膜系中各層鍍制誤差對膜系性能的影響。實際制備得到的Cr/SiO2結(jié)構(gòu)光吸收膜平均反射率為2.14％，可以滿足實際使用需求。
　　厚膠光刻技術(shù)的工藝實驗研究。復(fù)雜膜系和紅外膜系的膜層厚度常常達到幾十微米以上，如果采用光刻工藝制作，則要求相應(yīng)的光刻膠厚度在100μm以上。而現(xiàn)有的用于制作多通道濾光片的Lift-Off光刻技術(shù)

3、制作的光刻膠圖案厚度在10μm以下，不能滿足上述要求。本文采用雙層涂膠法制備了厚度200μm左右的超厚光刻圖案，可以滿足復(fù)雜膜系或紅外膜系多通道濾光片的制作需求。
　　光刻技術(shù)的參數(shù)優(yōu)化實驗。本文采用NR21-20000P和NR9-8000光刻膠作為研究對象，詳細研究了各工藝參數(shù)對光刻膠圖形側(cè)壁形貌質(zhì)量的影響，測定了光刻膠的顯影速率、透過率等參數(shù)隨工藝條件的變化情況，最后通過正交實驗確定了組合優(yōu)化實驗參數(shù)。通過Lift-Off工藝