光學(xué)材料折射率均勻性的子孔徑拼接技術(shù)研究.pdf

1、聲明本學(xué)位論文是我在導(dǎo)師的指導(dǎo)下取得的研究成果，盡我所知，在本學(xué)位論文中，除了加以標(biāo)注和致謝的部分外，不包含其他人已經(jīng)發(fā)表或公布過的研究成果，也不包含我為獲得任何教育機構(gòu)的學(xué)位或?qū)W歷而使用過的材料。與我一同工作的同事對本學(xué)位論文做出的貢獻均已在論文中作了明確的說明。研究生簽名：互疊籃2DIf年弓月2f日學(xué)位論文使用授權(quán)聲明南京理工大學(xué)有權(quán)保存本學(xué)位論文的電子和紙質(zhì)文檔，可以借閱或上網(wǎng)公布本學(xué)位論文的部分或全部內(nèi)容，可以向有關(guān)部門或機構(gòu)送

2、交并授權(quán)其保存、借閱或上網(wǎng)公布本學(xué)位論文的部分或全部內(nèi)容。對于保密論文，按保密的有關(guān)規(guī)定和程序處理。研究生簽名：l壘籃2D／J年弓月2舊碩七論文fjfY㈣I螂蚴f百。巖攀攔翟摘要隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，大口徑光學(xué)系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用在各個領(lǐng)域，對大口徑光學(xué)材料的要求亦越來越高，其中材料光學(xué)均勻性是一個主要的測試指標(biāo)。由于我國口徑在600ram以上的1二涉儀數(shù)量極其有限，針對日益迫切的需求，本文采用子孔徑拼接方法對大口徑光學(xué)材料的均勻性進行干涉絕對

3、檢驗。本測量過程是一種雙重多對象f涉檢驗：光學(xué)材料的折射率均勻性干涉測量是一種四步法的多對象F涉檢驗的絕對測最，而針對大尺寸石英平晶(①500ram)采用子孔徑分區(qū)測試后再拼接的方法就成為另一重的多對象干涉檢驗。本文在下述幾個方面對折射率均勻性的子孔徑拼接測試系統(tǒng)進行了研究：首先通過對光學(xué)均勻性干涉絕對測量方法原理以及子孔徑拼接原理算法與拼接模式的選擇方案的探討，確立了系統(tǒng)的測試要求與步驟；其次研究了子孔徑拼接過程中數(shù)據(jù)處理方法，提出采