基于LabVIEW的DUP實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)的研究與開(kāi)發(fā).pdf_第1頁(yè)
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1、本課題采用虛擬儀器的設(shè)計(jì)思想,以圖形化開(kāi)發(fā)平臺(tái)LabVIEW為技術(shù)核心,開(kāi)發(fā)磁控濺射實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)對(duì)磁控濺射過(guò)程中各項(xiàng)重要參數(shù)的采集及后續(xù)處理,建立了完備的歷史數(shù)據(jù)庫(kù),為鍍膜工藝的改進(jìn)以及系統(tǒng)最終實(shí)現(xiàn)模糊控制提供原始數(shù)據(jù)支持。本文主要完成如下工作:1.通過(guò)對(duì)磁控濺射離子鍍技術(shù)的工藝原理和工藝性能的深入分析,提出了實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)的總體設(shè)計(jì)方案,對(duì)系統(tǒng)功能進(jìn)行了劃分,確定了軟件的開(kāi)發(fā)環(huán)境和開(kāi)發(fā)工具。2.論述系統(tǒng)軟件開(kāi)發(fā)過(guò)程中涉及到的關(guān)鍵技

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