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1、MOVCVD(MetalOrganicChemicalVaporDeposition)是一種高質(zhì)量的半導(dǎo)體材料生長(zhǎng)技術(shù),主要應(yīng)用于半導(dǎo)體材料、納米材料等材料生長(zhǎng)領(lǐng)域。本項(xiàng)目來源為陜西省自然基金資助項(xiàng)目。針對(duì)西安電子科技大學(xué)MOCVD系統(tǒng),根據(jù)MOCVD系統(tǒng)工藝要求,進(jìn)行了基于可編程邏輯控制器的MOCVD設(shè)計(jì)與研究。 針對(duì)第一代MOCVD系統(tǒng)的不足和缺陷提出了全新的設(shè)計(jì)理念。MOCVD控制系統(tǒng)選用西門子可編程邏輯控制器作為核心控制
2、器,設(shè)計(jì)了上位機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)。反應(yīng)室的溫度控制設(shè)計(jì)了上位機(jī)加溫控器控制和底層PLC臨時(shí)托管兩種方式。提出了全新的軟件設(shè)計(jì)思想。主要設(shè)計(jì)了步序與循環(huán)控制、報(bào)警及故障處理、模擬量多路分時(shí)選擇輸入、模擬量平滑處理及輸出、中斷處理等子程序。并對(duì)軟件進(jìn)行加密保護(hù)。為解決MOCVD設(shè)備溫度控制非線性、時(shí)變性以及大滯后等問題,提出改進(jìn)的基于誤差反向傳播算法(BP)的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)控制方法。該方案較好地解決了系統(tǒng)中存在的非線性、大滯后、物理模型不精確等問題,對(duì)實(shí)
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