地質(zhì)填圖要求及規(guī)范

1、一、一、1:1000地質(zhì)剖面剖面（一）工作方法1地質(zhì)剖面測量是地質(zhì)填圖工作的基礎(chǔ)，因此在填圖工作之前，測制1－2條完整的地質(zhì)剖面，比例尺采用1:1000，用以劃分填圖單元，研究地層及構(gòu)造，為1:10000地質(zhì)填圖服務(wù)。2剖面線應(yīng)垂直地層走向布置，位置應(yīng)選擇在地層層序較齊全，相帶明顯，構(gòu)造簡單，接觸關(guān)系和標(biāo)志層清楚，基巖出露較好，具有代表性的地段進(jìn)行。為確保剖面的實(shí)測精度，剖面上的地層、礦層界線、構(gòu)造線若被浮土掩蓋，應(yīng)予揭露。3實(shí)測剖面應(yīng)

2、逐層對巖石和地質(zhì)礦產(chǎn)特征進(jìn)行細(xì)致的觀察描述，系統(tǒng)地采集標(biāo)本，按不同巖石類型分層采集一定數(shù)量的樣品。4地質(zhì)剖面用半儀器法測制，采用定地質(zhì)點(diǎn)的方法進(jìn)行。分層距離用皮尺丈量，地質(zhì)體出露寬度在1米以上者在圖上應(yīng)有表示，小于1米，具有特殊地質(zhì)意義的地質(zhì)體應(yīng)放大表示。5實(shí)地分層界線用小紅旗作標(biāo)記。6地質(zhì)記錄內(nèi)容應(yīng)全面、準(zhǔn)確，地質(zhì)體產(chǎn)狀及所采各種樣品應(yīng)按分隊(duì)的統(tǒng)一格式標(biāo)繪于剖面圖相應(yīng)位置上，并做文字記錄。7根據(jù)實(shí)測地質(zhì)剖面和其它地質(zhì)工作所取得的各項(xiàng)地

3、質(zhì)資料建立較合理的地層層序，查明巖層厚度，巖性、巖石組合特征，物質(zhì)成份，巖相組合等。研究地層、巖石的含礦性，盡可能確定其時代，選定標(biāo)志層，劃分填圖單元。8地質(zhì)剖面圖的內(nèi)容和布局參照附圖1。要加強(qiáng)導(dǎo)線平面圖的繪制，b地層描述；c巖漿巖及脈巖描述；d構(gòu)造；e礦產(chǎn)（應(yīng)詳述）；f新進(jìn)展、新發(fā)現(xiàn)和新見解。（3）存在問題。（二）質(zhì)量要求1文字記錄質(zhì)量（1）記錄格式、描寫內(nèi)容和順序、記量單位等符合有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的要求。（2）層次分明、重點(diǎn)突出、語言精煉、概

4、念清楚、字跡清楚。（3）分層合理，各層之間接觸關(guān)系敘述清楚。（4）巖石定名基本準(zhǔn)確，巖性描述詳細(xì)且與定名相符。（5）蝕變與礦化、巖（礦）脈、構(gòu)造和化石等特征描述詳盡。（6）各種產(chǎn)狀數(shù)據(jù)齊全、準(zhǔn)確、有代表性。2剖面圖質(zhì)量（1）比例尺和圖式、圖例等符合有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)要求，內(nèi)容齊全、圖面整潔、字跡清晰、花紋美觀。（2）剖面起點(diǎn)、終點(diǎn)和工程位置、地質(zhì)界線及各種數(shù)據(jù)準(zhǔn)確，按比例尺要求地質(zhì)體和重要地質(zhì)現(xiàn)象無遺漏，各種構(gòu)造要素表示合理。剖面圖與平面圖吻合，