基于4f技術的雙光束干涉測量三階光學非線性的研究.pdf

1、由于三階非線性光學效應的廣泛應用，尋找一種簡單、精確的方法來測量物質的光學非線性就顯得十分重要的。目前測量材料三階光學非線性最為常用的方法是Z-scan技術，該方法采用單光束測量，優(yōu)點是靈敏度高，但是多次照射容易造成樣品損傷。本論文主要研究了一種基于4f相干成像技術的雙光束干涉方法，用于測量三階非線性折射系數(shù)?，F(xiàn)有4f相干成像系統(tǒng)，都是通過分析像平面的光強分布來獲得樣品非線性相移的信息，這些方法不能得到物波在像平面上的相位信息。我們對此

2、情況進行了改進，使觀察光波在介質內(nèi)的演化過程變?yōu)榭赡堋?br>　　本論文以傅里葉變換及其逆變換和非線性濾波理論為基礎。在4f相干成像技術的基礎上設計了一種用于測量三階光學非線性折射系數(shù)的雙光束干涉系統(tǒng)。對雙光束系統(tǒng)進行了理論分析和數(shù)值模擬。首先分別針對純雙光子吸收、純非線性折射、雙光子吸收與非線性折射共存三種情況，數(shù)值模擬研究并總結了干涉條紋的變化規(guī)律。接著應用相位變換數(shù)字全息法得到像平面上物波的復振幅分布，最后通過反推法計算，得到基于