用交流電源代替直流電源就構成了交流濺射系統(tǒng),由于常用的交流電源的頻率在射頻段,如1356MHZ,所以稱為射頻濺射。在直流射頻裝置中如果使用絕緣材料靶時,轟擊靶面得正離子會在靶面上累積,使其帶正電,靶電位從而上升,使得電極間的電場逐漸變小,直至輝光放電熄滅...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 畢業(yè)設計 / 發(fā)布時間:2024-03-14 / 7人氣
第四章真空濺射鍍膜,VACUUMSPUTTERINGCOATING,教學重點濺射鍍膜原理;磁控濺射靶;靶的磁場分布計算;典型鍍膜機,41濺射技術,SPUTTERINGTECHNIQUE,1)定義濺射用荷能粒子(氣體正離子)轟擊物體,從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象及過程。被轟擊物體處于負電...
下載價格:4 賞幣 / 發(fā)布人: 畢業(yè)設計 / 發(fā)布時間:2024-01-07 / 29人氣
點擊查看更多“磁控濺射中濺射原子輸運過程的蒙特卡諾模擬”精彩內(nèi)容。
下載價格:14 賞幣 / 發(fā)布人: 畢業(yè)設計 / 發(fā)布時間:2024-01-05 / 18人氣
聚焦離子束(FIB)濺射1聚焦離子束(FIB)濺射題目題目AREVIEWOFFOCUSEDIONBEAMSPUTTERING作者作者MOHAMMADYEAKUBALIWAYNEHUNGFUYONGQI期刊期刊INTERNATIONALJOURNALOFPRECISIONENGINEERINGMANUFACTURINGVOL11NO1PP157170期刊日期期刊日期FEBRUARY2010157綜述了聚焦...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 畢業(yè)設計 / 發(fā)布時間:2024-03-08 / 10人氣
1磁控濺射鍍膜原理及工藝摘要真空鍍膜技術作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術,在現(xiàn)實生產(chǎn)生活中有著廣泛的應用。真空鍍膜技術有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。這里主要講一下由濺射鍍膜技術發(fā)展來的磁控濺射鍍膜的原理及相應工藝的研究。關鍵詞濺射;濺射變量;...
下載價格:6 賞幣 / 發(fā)布人: 畢業(yè)設計 / 發(fā)布時間:2024-03-11 / 8人氣
下載價格:6 賞幣 / 發(fā)布人: 畢業(yè)設計 / 發(fā)布時間:2024-03-11 / 12人氣
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 畢業(yè)設計 / 發(fā)布時間:2024-03-16 / 21人氣
氧化鋅是一種直接帶隙的寬禁帶ⅡⅣ族化合物半導體材料,在室溫下禁帶寬度為327EV,激子結合能為60MEV,具有良好的光電、壓電、熱電和鐵電等性能,可應用于短波長發(fā)光二極管、紫外激光器和表面聲波等光電器件的制備,近幾年來引起了人們廣泛的研究。直流反應磁控濺射...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 走過安河橋北 / 發(fā)布時間:2024-03-10 / 7人氣
由于釩是一種過渡金屬元素,可與氧結合形成多種價態(tài)的氧化物,并且在光電轉換、熱敏特性方面表現(xiàn)出了優(yōu)異并且獨特的性質(zhì),因此氧化釩薄膜成為國內(nèi)外的研究重點。目前對氧化釩的研究重點主要集中在器件方面,如光輻射防護薄膜、光學數(shù)據(jù)存儲、太陽能電池及軍用激等應...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 消耗 / 發(fā)布時間:2024-03-10 / 3人氣
磁控濺射是一種物理氣相沉積技術已被廣泛地應用于各種薄膜的制備它主要包括濺出粒子原子或分子的產(chǎn)生和輸運以及輸運到基片的粒子在基片上的擴散、聚集、生長成膜兩大微觀過程其中產(chǎn)生濺出粒子的靶材濺射過程是關鍵性的部分在靶材濺射過程中濺射產(chǎn)額與靶材的刻蝕一直...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 眼中星光嘴角笑意 / 發(fā)布時間:2024-03-10 / 13人氣
點擊查看更多“磁控濺射制備鋁薄膜”精彩內(nèi)容。
下載價格:1 賞幣 / 發(fā)布人: 世中仙 / 發(fā)布時間:2024-03-21 / 0人氣
目前在原子團簇和納米材料的合成和制備研究中激光等離子體合成法扮演了一個極其重要的角色許多突破性的進展都是通過激光等離子體合成法來實現(xiàn)的如C及其富勒烯家族的發(fā)現(xiàn)碳納米管和其他多種類型納米材料的生成等因此我們希望通過建立起脈沖激光濺射合成法探索一種團簇...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 期待著 / 發(fā)布時間:2024-03-10 / 4人氣
碩士學位論文2005MJ縱向磁場中濺射機理研究THERESEARCHOFDEPOSITIONMECHANICSINLONGITUDINALMAGNETICFIELDU究牛姓私儲開慧指導教師姓名~~苧G業(yè)躬稱國慶教授材料物理與化學研究方向一一一整豎蓐熙盟贊一論艾提交II期2005誓苧一舅塑璺£型竺竺塑堡G塑里堅壁墮壘墮ABS...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 不思量自難忘 / 發(fā)布時間:2024-03-10 / 15人氣
濺射鍍膜是制備薄膜常用的方法,它具有許多優(yōu)點薄膜與基體的附著力較強;在大面積連續(xù)基板上可以制取均勻的膜層;容易控制膜的成分,可以制取各種不同成分和配比的合金膜;可以進行反應濺射、制取化合物膜等。但是濺射鍍膜法在制備合金膜時存在擇優(yōu)濺射現(xiàn)象,這會使...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 永不停歇 / 發(fā)布時間:2024-03-10 / 3人氣
磁控濺射法制備薄膜材料綜述磁控濺射法制備薄膜材料綜述材料化學材料化學張召舉張召舉摘要薄膜材料的厚度是從納米級到微米級,具有尺寸效應,在國防、通訊、航空、航天、電子工業(yè)等領域有著廣泛應用,其有多種制造方法,目前使用較多的是濺射法,其中磁控濺射的應用...
下載價格:6 賞幣 / 發(fā)布人: 畢業(yè)設計 / 發(fā)布時間:2024-03-09 / 12人氣
復旦大學碩士學位論文05UMBICMOS項目金屬濺射工藝開發(fā)姓名楊飛申請學位級別碩士專業(yè)電子與通信工程指導教師姜國寶20071031摘要本文主要論述了一個0.5UMBICMOS工藝平臺項目中濺射金屬工藝的開發(fā)流程。該濺射工藝采用的是VARIAN公司的M2I磁控濺射系統(tǒng)。文章主要包括三...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 翻譯員 / 發(fā)布時間:2024-03-12 / 4人氣
本文全面系統(tǒng)的研究了沉積條件對直流磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構和性能的影響,以及金屬鋁、鐵、鑭摻雜對直流磁控濺射制備氮化銅薄膜的結構和性能的改變。具體做了下列幾方面的研究并得出了相應的結論1在保持其它條件不變的情況下,改變氮氣分壓制備了氮化銅薄膜,...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 只愿我百歲 / 發(fā)布時間:2024-03-09 / 10人氣
銅銦鎵硒CIGS薄膜太陽能電池具有抗輻射能力強、光電轉化效率高、工作性能穩(wěn)定等特點,是最有發(fā)展前景的太陽能電池之一。CIGS光吸收層薄膜的主要制備方法是多源共蒸發(fā)法和濺射硒化法。用共蒸發(fā)法制備的CIGS器件的光電轉換效率已經(jīng)達到203%,是目前CIGS薄膜太陽能電池...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 哭哭啼啼 / 發(fā)布時間:2024-03-09 / 5人氣
CLASSIFIEDINDEX0469UDC530SECRECYRATEPUB。。。I。。Z。IEDUNIVERSITYCODE●HEBEIUNIVERSITYOFSCIENCEANDTECHNOLOGYDISSERTATIONFORTHEMASTERDEGREE10082THERESEARCHOFPREPARATINGFILMSBYUSINGOFMAGNETRONSPUTTERINGCANDIDATESUPERYISORASSOCIATESUPERVISORACADEMIC...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 貞潔 / 發(fā)布時間:2024-03-08 / 5人氣
本論文主要研究SRO薄膜的生長工藝為在鐵電薄膜器件中的應用奠定基礎首先本論文開展了筒形SRO陶瓷靶材的燒結工藝研究通過大量實驗優(yōu)化了燒結工藝其燒結溫度為1550℃、保溫24小時所制備的靶材結構致密、結晶良好采用倒筒式直流濺射法在LAO和PTTISIOSI基片上沉積SRO薄膜...
下載價格:5 賞幣 / 發(fā)布人: 所謂 / 發(fā)布時間:2024-03-09 / 4人氣
copyright@ 2011-2023 聯(lián)系方式qq:9411152
本站所有資料均屬于原創(chuàng)者所有,僅提供參考和學習交流之用,請勿用做其他用途,轉載必究!如有侵犯您的權利請聯(lián)系本站,一經(jīng)查實我們會立即刪除相關內(nèi)容!
機械圖紙源碼,實習報告等文檔下載
備案號:浙ICP備20018660號