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文檔簡介
1、在現(xiàn)代科學技術中,集成電路(IC)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展水平體現(xiàn)了一個國家科學技術的發(fā)達程度,是一個國家科技競爭力的重要反映。半導體器件是構成集成電路的基礎,而作為研制半導體器件的一種重要且高效的手段,半導體器件的計算機模擬技術的地位顯得更加重要。另外,基于第三代寬禁帶半導體材料的新型器件的研究是目前的一個熱點,尤其是HEMT器件,因其電子的遷移率高而受到廣泛的關注和應用。
在上面介紹的背景下,本論文首先介紹了半導體器件模擬的相關理論,然
2、后論述了HEMT器件的工作原理,接著研究了第三代半導體材料的物理模型,最后構建了典型HEMT器件模型結構,并對該結構進行了仿真。這些工作總結起來可列述如下:
1.簡要的介紹了半導體材料及HEMT器件的發(fā)展情況,計算機模擬技術的相關概念,國內(nèi)外TCAD軟件的發(fā)展及研究現(xiàn)狀。
2.詳細的介紹了半導體器件模擬理論中涉及的載流子輸運方程、電流連續(xù)性方程和泊松方程以及它們的物理意義,同時通過這幾個基本方程推導了作為器件模擬基礎
3、的經(jīng)典的漂移擴散模型。
3.重點介紹了GaN/AlGaN異質結構,以及該類異質結構中特有的自發(fā)極化和壓電極化效應,給出了二維電子氣的概念和產(chǎn)生機理,敘述了典型HEMT器件的工作原理。
4.查閱相關文獻以及技術資料,確定了 GaN和 AlGaN材料的能帶模型,遷移率模型,復合率模型等基本物理模型或參數(shù),并一一對其進行了總結。然后,通過C++語言編碼實現(xiàn)了這些模型,并將它們添加進了Genius源碼中。
5.通過
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