介質(zhì)-金屬-介質(zhì)多層薄膜光電性能改善研究.pdf

1、介質(zhì)/金屬/介質(zhì)多層薄膜(D/M/D)，既具有較好的光學性能和電學性能，又能保證制備過程及工藝的簡單與環(huán)保，因此可以作為新型透明導電電極，替代目前雖被廣泛應用但具有一定毒性且成本較高的ITO膜。但在實際應用中，還需要進一步改善介質(zhì)/金屬/介質(zhì)多層復合膜的光透過率和導電性能，才能使其得到廣泛應用。本文先制備TiO2/Ag/TiO2復合薄膜，再采用氬等離子體輻照的方式，來提高TiO2/Ag/TiO2復合膜系的光電性能。圍繞該主題，本文主要開

2、展以下工作:
　　首先，本文采用真空蒸發(fā)鍍的方法制備納米Ag薄膜，再使用氬等離子體輻照Ag膜。之后測試氬等離子體輻照對薄膜表面形貌、可見光波段吸收譜及薄層電阻的影響。結(jié)果表明氬等離子體輻照可以明顯提高納米Ag薄膜的導電性，甚至使原來不導電的納米Ag薄膜具有導電性。同時，氬等離子輻照還可以在一定程度上提高Ag膜的光透過率。氬等離子體輻照提高Ag膜的光電性能之后，Ag膜更適合作為TiO2/Ag/TiO2復合薄膜的中間膜層。
　　

3、然后，利用真空蒸發(fā)鍍膜沉積TiO2/Ag/TiO2復合薄膜，通過控制Ag和TiO2的膜層厚度制備出具有高導電性和高透過率的透明導電薄膜。并使用氬等離子體輻照TiO2/Ag/TiO2薄膜中的Ag膜層，進一步提高TiO2/Ag/TiO2薄膜的光透過率及導電性。最后結(jié)合SEM圖像分析了氬等離子體輻照對此類“三明治”結(jié)構(gòu)復合薄膜光電性能的具體作用和影響。結(jié)果表明采用本文氬等離子體輻照方法處理之后的TiO2/Ag/TiO2復合膜擁有良好的導電性和