氫化非晶硅液晶空間光調制器的制備與性能研究.pdf

1、液晶空間光調制器是一種對光波的光場分布進行調制的器件,它能夠接受較低強度的光驅信號或電驅信號,實現對另外一種光信號振幅、相位、強度的調制。其廣泛應用于空間濾波、圖像處理、大屏幕顯示等,極大的方便了視覺信息的交流和傳遞。因此研究液晶空間光調制器各功能層性質從而提高器件分辨率,響應速度等具有十分重要意義。
　　論文首先介紹了液晶空間光調制器的工作原理,從理論上提出器件對各功能層的要求。其中光敏層的亮暗電導比直接決定了器件性能優(yōu)良,論文

2、中采用氫化非晶硅薄膜作為光敏層,通過調節(jié)不同工藝參數,借助多種分析測試方法,研究了氣體溫度、射頻功率密度、氣體流量、壓強和不同摻雜比對非晶硅薄膜光電性能的影響。并根據測試結果優(yōu)化工藝參數,制備出性能良好的薄膜。
　　采用等離子體化學氣相沉積(PECVD)法,在ITO玻璃襯底上制備出硼輕摻雜比的氫化非晶硅(a-Si:H)半導體薄膜。測量了樣品光暗電導率,折射率,消光系數,禁帶寬度隨摻雜比的變化。結果表明:隨著硼摻雜比濃度的增加,薄膜

3、的暗電導率先減小后增大。消光系數,禁帶寬度等都隨著摻雜量的增加而變化。實驗在改變不同工藝條件的情況下,改變硼摻雜濃度,確定了最佳摻雜比(光暗電導率之比最大)。此后依次制備出適合器件級的微摻雜氫化非晶硅薄膜光敏層、吸收層、介質鏡等。
　　采用熱蒸發(fā)法 CdTe薄膜,并且使用紫外-可見光光分度計測試了薄膜的透過率。在此基礎上測試了氫化非晶硅薄膜與CdTe薄膜復合層的透過率。介質鏡在器件中主要是隔絕寫入光與讀出光。測試顯示制備出的介質鏡