二硫化鉬-石墨烯復(fù)合納米片的制備及電化學(xué)性能研究.pdf

1、二硫化鉬（MoS2）是一種過渡金屬硫?qū)倩铮涠S層狀結(jié)構(gòu)與石墨烯相似，被認(rèn)為在電學(xué)與催化應(yīng)用方面具有巨大的潛力。大量的暴露邊緣使MoS2納米片具有出色的催化活性與優(yōu)異的生物傳感特性從而被廣泛應(yīng)用于生物傳感器領(lǐng)域，作為電極材料進(jìn)行生物分子的檢測。MoS2本身相對(duì)低的電導(dǎo)性能限制了其在生物傳感器領(lǐng)域的應(yīng)用。石墨烯具有超高的電導(dǎo)性能，優(yōu)異的機(jī)械性能和大的比表面積，吸引著研究人員的關(guān)注?；瘜W(xué)氣相沉積（CVD）法可以制備得到石墨烯具有較高的質(zhì)量

2、，極少的缺陷及良好的導(dǎo)電性能，是無缺陷石墨烯理想的制備方法。石墨烯的添加將是解決MoS2差電導(dǎo)性能有效的方法之一。本文通過液相超聲輔助剝離法剝離原始MoS2粉末，并與超聲的化學(xué)氣相沉積制備的泡沫石墨烯（GF）混合均勻，成功制備了MoS2-石墨烯復(fù)合納米片。
　　采用掃描電子顯微鏡（SEM）、X射線衍射（XRD）與拉曼光譜（Raman）對(duì)MoS2-石墨烯復(fù)合納米片材料進(jìn)行表征。SEM圖中顯示MoS2-石墨烯復(fù)合納米片是表面光滑的片狀

3、結(jié)構(gòu)，尺寸約為幾百納米到幾個(gè)微米。MoS2-石墨烯復(fù)合納米片結(jié)構(gòu)顯示兩種不同尺寸的納米片，其中較小尺寸的MoS2納米片散落在大片層的石墨烯表面。XRD分析結(jié)果顯示復(fù)合材料由MoS2與石墨烯構(gòu)成。石墨烯納米片的存在很大程度上限制了MoS2納米片的重組。Raman圖譜表明MoS2納米片與石墨烯均為少層結(jié)構(gòu)且石墨烯納米片為低缺陷石墨烯。
　　將MoS2-石墨烯復(fù)合納米片通過噴涂法轉(zhuǎn)移到ITO導(dǎo)電玻璃表面構(gòu)建MoS2-石墨烯/ITO電極，