液動壓懸浮拋光流場的數值模擬及其試驗研究.pdf

1、納米薄膜材料作為一種新型材料，由于其特殊的結構特點，以及電、磁、光特性和力學性能，在電子工業(yè)迅速崛起的今天，越發(fā)能體現其重要價值。而納米薄膜襯底表面形貌決定了納米薄膜的原子層堆積形態(tài)及其生長方向，對納米薄膜產品的綜合性能具有巨大的影響?，F階段制備納米薄膜超光滑襯底的加工方法很多，但仍然存在一些不足之處。
　　本文為了制備出納米薄膜超光滑襯底，提出了一種新型拋光方法——液動壓懸浮拋光。這種方法的目的在于提高拋光加工時的液體承載能力，

2、改善加工區(qū)域的拋光液壓力的分布均勻性，以制備出超光滑的納米薄膜襯底。本文的主要研究內容有:
　　(1)分析了游離磨粒拋光過程中游離磨粒的運動狀態(tài)和沖擊去除材料理論。通過二維模擬比較了三種流道結構的優(yōu)劣，發(fā)現其中存在的不足，提出了一種含約束邊界的新型拋光工具盤。
　　(2)運用FLUENT軟件對三維流場模型進行數值模擬，得出拋光工具盤結構參數、加工參數對液體壓力分布的影響。通過二相流模擬，得出拋光過程中懸浮磨粒對拋光液壓力的影