基于計(jì)算機(jī)控制小磨頭拋光的去除函數(shù)理論研究.pdf

1、隨著經(jīng)濟(jì)社會的發(fā)展,光學(xué)技術(shù)對于航空航天、國防能源等領(lǐng)域的重要性越來越大,造成了相關(guān)領(lǐng)域?qū)τ诜乔蛎婀鈱W(xué)元件的大量需求。計(jì)算機(jī)光學(xué)表面成型技術(shù)(CCOS)是加工超精密光學(xué)元件的主要技術(shù)手段,其中,計(jì)算機(jī)控制小磨頭拋光是該技術(shù)中的一個重要分支,廣泛應(yīng)用于非球面元件的加工制造領(lǐng)域。
　　本文以計(jì)算機(jī)控制小磨頭拋光技術(shù)為主要研究對象,以優(yōu)化行星結(jié)構(gòu)下拋光去除函數(shù)為目標(biāo),通過理論分析、仿真處理等手段,對小磨頭拋光去除函數(shù)進(jìn)行詳細(xì)研究。

2、>　　本文的主要研究內(nèi)容包括:傳統(tǒng)行星結(jié)構(gòu)下小磨頭拋光的研究,以Preston假設(shè)為基礎(chǔ),通過矢量分析建立該結(jié)構(gòu)下的去除函數(shù),并且探討了轉(zhuǎn)速比和偏心率等因素對于去除函數(shù)的影響;以趨近因子為評價指標(biāo),對去除函數(shù)進(jìn)行了參數(shù)優(yōu)化。環(huán)形拋光盤去除函數(shù)的研究,在行星結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上,對環(huán)形拋光盤進(jìn)行了建模,分析該函數(shù)特性,探討了中心孔大小對于去除函數(shù)的影響以及其對于減小中高頻誤差的意義;比較了傳統(tǒng)拋光盤和環(huán)形拋光盤在均布壓力下的磨損特性,指出了環(huán)形拋光

3、盤對于減小磨損不均勻的意義。
　　駐留時間和殘余誤差的研究,以離散矩陣為基礎(chǔ),通過脈沖迭代法和最小二乘法求解駐留時間和殘余誤差,比較了兩種求解方法的優(yōu)劣;利用脈沖迭代法作為駐留時間算法,計(jì)算了多種參數(shù)下最優(yōu)化去除函數(shù)的加工誤差;計(jì)算了不同進(jìn)給步距和拋光盤尺寸條件下,殘余誤差的大小,給出了其影響規(guī)律;比較了環(huán)形拋光盤和傳統(tǒng)拋光盤對于加工后殘余誤差的影響;研究了不同面形條件下,材料去除量的特征。
　　本文對于傳統(tǒng)小磨頭拋光的技術(shù)