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文檔簡介
1、自1987年,鄧青云博士發(fā)現(xiàn)有機發(fā)光二極管(OLED)以來,經(jīng)過人們不斷地研究改進,加上OLED本身固有的諸如廣視角、高亮度、可柔性化等優(yōu)點,OLED已成為照明和顯示領(lǐng)域的新寵兒。當(dāng)OLED應(yīng)用于顯示領(lǐng)域,為了更好地與a-Si TFT驅(qū)動電路配合使用,倒置底發(fā)射的結(jié)構(gòu)相比傳統(tǒng)的正置結(jié)構(gòu)更具有優(yōu)勢,因此本論文主要研究的OLED器件結(jié)構(gòu)即為倒置底發(fā)射結(jié)構(gòu)。此種結(jié)構(gòu)存在的最大的問題是電子的注入效率,因為在此種結(jié)構(gòu)中常采用ITO為透明陰極,其功
2、函數(shù)約為4.8eV,而大部分的電子傳輸材料的LUMO只有2.5eV~3.5eV,這意味著電子的注入勢壘高達1.3eV~2.3eV,也就是電子的注入變得非常困難,這嚴重制約了整體器件的性能。
本研究主要內(nèi)容包括:⑴通過在ITO底電極上蒸鍍低功函數(shù)的金屬Al來加強電子的注入。考慮到Al的功函數(shù)較低,為4.28eV,通過在ITO上修飾Al可以降低其功函數(shù),以降低電子的注入勢壘。然而通過進一步地研究發(fā)現(xiàn)當(dāng)Al呈現(xiàn)小尺寸的納米顆粒時,其
3、修飾的器件性能最優(yōu),表現(xiàn)為最低的工作電壓,最高的發(fā)光效率。通過TEM、AFM、UPS等表征和高斯定理的推導(dǎo),我們提出小尺寸的金屬納米顆粒導(dǎo)致局域電場增強從而可以加強電子注入的物理模型。為了驗證此物理模型,我們還選擇了另外兩種低功函數(shù)金屬Ag和Cu,實驗的結(jié)果顯示Ag和Cu納米顆粒都是可以加強電子注入,提高器件的性能;⑵基于前面的提出的物理模型,我們還嘗試了用高功函數(shù)的金屬Pt來修飾ITO。通過在ITO上濺射不同量的Pt來制備器件,器件的
4、結(jié)構(gòu)和表征結(jié)果同樣顯示當(dāng)Pt量較少,在ITO上以納米顆粒的狀態(tài)存在時,其修飾的器件開啟電壓最低,發(fā)光效率最高。然后我們還選擇了高功函數(shù)金屬Au,通過濺射和自組裝兩種方式來修飾ITO,同樣發(fā)現(xiàn)器件性能得到很大改善,這說明以納米顆粒形式存在的金屬可以加強電子的注入,而不取決于它自身的功函數(shù);⑶當(dāng)今世界的主流趨勢是節(jié)能環(huán)保,為響應(yīng)這個理念以及加上之前的物理模型,我們選擇了價格低廉且環(huán)保的碳納米結(jié)構(gòu)材料,通過濺射、旋涂、蒸鍍的方式在ITO上修飾
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