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文檔簡介
1、在光學(xué)三維形貌測量領(lǐng)域,常用計算機產(chǎn)生數(shù)字正弦光柵條紋進行投影測量,該方法雖然能產(chǎn)生較好的測量效果但仍存在著一定的缺陷,如由投影儀的非線性Gamma誤差帶來的非正弦性以及實際測量時需要對投影儀進行頻繁的標定。為了解決傳統(tǒng)方法中直接投影正弦條紋時存在的這些缺陷,本文研究了基于二進制條紋投影的三維形貌測量,并結(jié)合三維測量中的相移法,實現(xiàn)高精度的三維形貌測量技術(shù)。
本文以傳統(tǒng)方法中直接投影正弦條紋圖三維測量為參照,致力于研究二進制條
2、紋投影相移法三維測量技術(shù)。整個測量系統(tǒng)包含相移法、相位解包裹算法、二進制條紋投影的分析以及系統(tǒng)標定等。相移法適用于本文研究的靜態(tài)場景,具有較高的測量精度和空間分辨率,且不同步數(shù)相移算法對本文研究重點二進制條紋投影三維測量的精度具有不同的影響。本文針對二進制條紋投影三維測量分為兩部分進行研究:在投影儀散焦狀態(tài)下以及聚焦狀態(tài)下。散焦狀態(tài)下投影二進制條紋目的是產(chǎn)生理想的正弦條紋圖,其原理是0、1兩種灰度避免了投影儀的Gamma非線性影響,實際
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