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1、高性能復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng),隨著技術(shù)和工藝的發(fā)展而變?yōu)榭赡?,隨之也出現(xiàn)了新的挑戰(zhàn)。如高數(shù)值孔徑(Numerical Aperture,NA)光刻物鏡通過(guò)縮短工作波長(zhǎng)、浸液技術(shù)以及分辨率增強(qiáng)技術(shù),正由32nm節(jié)點(diǎn)向22nm節(jié)點(diǎn)發(fā)展,隨著性能參數(shù)向理論臨界值的逼近,傳統(tǒng)標(biāo)量分析法精度不再足夠,必須考慮光的矢量本質(zhì),采用矢量分析法。
本論文首先介紹了對(duì)高性能復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行偏振分析的研究意義及國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀,接著系統(tǒng)地總結(jié)了光學(xué)系統(tǒng)的偏振像
2、差基本理論,包括偏振像差函數(shù)及其計(jì)算方法。在此基礎(chǔ)上,以高NA光刻系統(tǒng)和大型激光系統(tǒng)為例,概述性地介紹了實(shí)際系統(tǒng)中偏振像差及其控制方法。文中還介紹了相關(guān)的光學(xué)軟件功能模塊的程序設(shè)計(jì)工作及其達(dá)到的分析效果。最后選取一實(shí)際高NA光刻投影物鏡進(jìn)行詳細(xì)的分析,分析中考慮了鍍膜、材料吸收作用及偏振照明使分析結(jié)果可靠性提高。利用光學(xué)軟件計(jì)算了系統(tǒng)中各光學(xué)界面的偏振參數(shù),如透過(guò)率、位相、二次衰減和延遲等,以分析偏振對(duì)系統(tǒng)傳輸性能和成像性能的影響,并根
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