反應(yīng)磁控濺射制備（Ti,Al）N薄膜的研究.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、本文首先對(duì)氣相沉積硬質(zhì)薄膜(鍍層)的發(fā)展以及TiN系列超硬薄膜的結(jié)構(gòu)、性能和應(yīng)用進(jìn)行了綜合描述,并分析了TiAlN薄膜相對(duì)與其它TiN系列薄膜的優(yōu)勢(shì),指出了其發(fā)展的方向.隨后總結(jié)了目前TiAlN薄膜的主要制備方法和主要的表征方式.在此基礎(chǔ)上選用直流反應(yīng)磁控濺射的方法在WC-6﹪Co和不銹鋼基體上成功的沉積了TiAlN薄膜.通過(guò)改變氮?dú)饬髁?基體溫度等工藝參數(shù),得到了不同組織結(jié)構(gòu)、性能和微觀形貌的TiAlN薄膜.通過(guò)改變基體偏壓的大小,研

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