高硅鋁合金-磷鉬酸電解液陽極氧化的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、在大氣中鋁及鋁合金表面與氧作用能形成一層氧化膜(0.01μm~0.05μm),這層自然氧化膜雖然能阻止大氣腐蝕,但氧化膜為非晶態(tài)、不均勻、不連續(xù)的膜層,不能作為可靠的防護(hù)、裝飾性膜層。通常采取陽極氧化法在鋁及鋁合金表面形成Al2O3鈍化層,陽極氧化膜層比自然氧化膜厚得多,表面為多孔結(jié)構(gòu),有利于表面的著色處理并提高涂層的結(jié)合力,提高表面的硬度、耐腐蝕性;氧化膜的制得有多種方法,目前國內(nèi)外應(yīng)用最多的是硫酸直流陽極氧化,它與其他酸陽極氧化相比

2、,在生產(chǎn)成本、氧化膜特點(diǎn)和性能方面具有明顯優(yōu)越性。
  本課題研究含硅量高達(dá)13%~15%的高硅鋁合金在磷鉬酸電解液中的陽極氧化,采用正交實(shí)驗(yàn)設(shè)計研究直流陽極氧化工藝因素對氧化膜的影響,以均勻性、顏色、耐堿性為指標(biāo)對膜層進(jìn)行性能表征,并對氧化膜的耐腐蝕性能進(jìn)行研究。陽極氧化的最佳工藝條件為:磷鉬酸濃度250 g/L,氧化時間30 min,丙三醇濃度8g/L,氧化溫度25℃,氧化電壓110V。
  采用掃描電子顯微鏡(Scan

3、ning electron microscope,SEM)、X射線能量色散譜(Energy dispersive X-ray spectroscopy,EDS)、X射線衍射(X-ray diffraction,XRD)等方法對氧化膜的微觀形貌和成分進(jìn)行了分析和對比。結(jié)果表明:氧化膜表面致密均勻,具有較強(qiáng)耐堿性,氧化膜主要由Al2O3組成,氧化膜厚度約在2μm左右。用金相砂紙來回摩擦氧化膜層未出現(xiàn)掉色現(xiàn)象,結(jié)果表明氧化膜的耐磨性很好;運(yùn)用

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