2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
已閱讀1頁,還剩76頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、當(dāng)今世界面臨著眾多的問題,能源緊缺就是其中的重中之重。釷作為最有潛能替代鈾的核能元素,未來將成為主要的核能元素。但是由于其具有的對人體和環(huán)境有巨大的傷害的放射性和毒性,所以對環(huán)境中釷(IV)的提取與監(jiān)測已成為必要。離子印跡是在固相萃取技術(shù)上發(fā)展起來的分子印跡技術(shù)中一種技術(shù),是以金屬離子為印跡模板的分子印跡,所以離子印跡技術(shù)可以實現(xiàn)對目標(biāo)離子的高選擇性萃取。磁性離子印跡聚合物不僅具備了離子印跡的對模板的高度選擇性和特異識別能力,而且還兼有

2、磁性粒子的順磁性特性,可以在外磁場作用下快速分離。
  本研究主要內(nèi)容包括:⑴對釷(IV)的分離分析方法、離子印跡技術(shù)、salophen/salen與金屬離子的作用及磁性分子印跡的應(yīng)用進行了簡要的概述。⑵合成salophen N, N'-雙-3-烯丙基水楊醛亞胺(BASPDA)以及其與釷(IV)的配合物,通過X-射線單晶衍射儀對配合物單晶進行表征,測定 BASPDA與Th(IV)離子的作用方式。運用紅外,紫外吸收光譜,熱重分析和熒

3、光光譜探討此絡(luò)合物的性質(zhì)。⑶以席夫堿salophen N, N'-雙-3-烯丙基水楊醛縮鄰苯二胺(BASPDA)與釷(IV)的配合物為功能單體和模板在烯基化磁性粒子表面采用表面印跡技術(shù)合成磁性Th(IV)離子印跡聚合物,并通過IR、XRD和SEM對其進行分析表征,在靜態(tài)法中,對此印跡材料進行了各實驗參數(shù)進行了研究。結(jié)果表明:該磁性印跡聚合物對釷(IV)有較好的吸附性能,在 pH為4.5時,其最大吸附容量是42.54mg/g,約是非印跡聚

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論