電阻陣列非均勻性自適應(yīng)校正技術(shù)研究.pdf

1、作為紅外仿真成像系統(tǒng)的核心器件,電阻陣列的非均勻性直接影響系統(tǒng)的成像效果。多年來國內(nèi)外對(duì)提高陣列非均勻性給予了高度重視并積極展開研究工作。目前陣列非均勻性較差、校正工作繁瑣復(fù)雜、算法硬件實(shí)現(xiàn)較為困難等問題尚未解決。這些缺陷都影響到了陣列輻射成像對(duì)實(shí)際場(chǎng)景的模擬效果。因此,本文從原始信息測(cè)量和校正算法兩方面入手,研究出了精確高效的測(cè)量方法和校正算法,這對(duì)紅外成像系統(tǒng)的仿真應(yīng)用有重大意義。
　　本文在電阻陣列非均勻信息測(cè)量和非均勻性校

2、正算法兩方面做了一些深入研究,在獲得準(zhǔn)確的非均勻信息基礎(chǔ)上，提出不同校正算法,檢驗(yàn)算法對(duì)非均勻性的改善情況并給出不同算法適用的場(chǎng)合。首先,研究了獲取準(zhǔn)確的原始非均勻信息的測(cè)量方法,比較簡(jiǎn)單低成本的稀疏網(wǎng)格法、簡(jiǎn)化稀疏網(wǎng)格法,高效的PSF粗估計(jì)全屏點(diǎn)亮法以及稀疏網(wǎng)格-PSF估計(jì)混合測(cè)試方法。研究了不同測(cè)試方法能達(dá)到的精度要求和適用的測(cè)試環(huán)境。為下一步非均勻性算法研究獲得準(zhǔn)確的原始信息。其次,提出分段校正算法,給出了電阻元特征響應(yīng)曲線擬合辦

3、法,完成特征曲線線性化等分段校正基礎(chǔ)工作,在此基礎(chǔ)上給出了分段校正算法原理與具體實(shí)現(xiàn)過程,并利用數(shù)值電阻對(duì)算法進(jìn)行仿真,驗(yàn)證分段校正算法對(duì)非均勻性的改善情況。然后,提出自適應(yīng)校正算法,建立算法網(wǎng)絡(luò)模型結(jié)構(gòu),確定了激活函數(shù)和目標(biāo)函數(shù)以及網(wǎng)絡(luò)權(quán)值修改方法,并利用模型獲得了電阻元輸出響應(yīng)曲線。給出了自適應(yīng)校正算法的原理和實(shí)現(xiàn)步驟,利用數(shù)值電阻對(duì)算法進(jìn)行了仿真驗(yàn)證,并由此得知在固有非均勻較為理想的情況下,自適應(yīng)校正算法具有非常好的校正效果。最后