真空噴射鍍膜射流流場數(shù)值模擬與霧化建模.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩113頁未讀 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、真空噴射法是制備聚合物薄膜的較為新型的方法,因其具有成膜致密、膜厚均勻可控及可制備梯度薄膜等特點而越來越受到人們的關(guān)注。本文以在真空環(huán)境下噴射聚合物溶液制備納米功能薄膜的真空噴射法為出發(fā)點,研究該方法的成膜過程及成膜影響因素并通過流體力學(xué)軟件Fluent對其射流流場進行模擬分析。FLUENT是一種應(yīng)用很廣的流體力學(xué)模擬計算軟件,將FLUENT軟件應(yīng)用到氣體真空狀態(tài)下的流場模擬,目前還沒有較為系統(tǒng)的研究。木文在確定FLUENT能模擬在真空

2、狀態(tài)壓力下限的基礎(chǔ)上,通過流體力學(xué)軟件Fluent對噴嘴射流流場進行了模擬分析并在此基礎(chǔ)上結(jié)合湍流運動建立了射流液體破碎的一次霧化模型。
  本文首先概述了真空噴射法的研究現(xiàn)狀和國內(nèi)外研究進展及液體射流霧化的相關(guān)理論。從噴嘴結(jié)構(gòu)、噴射壓差及流體介質(zhì)本身的物理性質(zhì)三個方面模擬并分析了其變化對噴嘴射流流場的影響。從模擬出的噴嘴射流流場的速度、壓力和湍流動能等方面全面分析射流流場對射流霧化的影響,得到在噴射壓力為10MPa、噴嘴流道結(jié)構(gòu)

3、變化越大、噴嘴直徑越大的射流流場霧化效果越好,液滴的平均直徑越小。同時發(fā)現(xiàn)在真空條件下環(huán)境介質(zhì)對射流運動的影響微小,因此不是射流液滴破碎的主要影響因素。在此基礎(chǔ)上結(jié)合噴嘴內(nèi)部流動情況,以湍流運動為基以湍流運動為主因結(jié)合射流表面波的變化以能量守恒為基礎(chǔ)建立了射流液體破碎的一次霧化物理模型和數(shù)學(xué)模型,得出了真空下射流霧化破碎的臨界條件,通過索特平均直徑對模型進行了初步驗證,用該模型分析得到了不同的液體的索特平均直徑分布。為研究真空下為液滴的

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論