多晶硅鑄錠冷卻過(guò)程優(yōu)化仿真及實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩65頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、多晶硅太陽(yáng)電池是光伏市場(chǎng)的主流,定向凝固技術(shù)是生產(chǎn)多晶硅的主要方法,對(duì)定向凝固多晶硅鑄錠生產(chǎn)過(guò)程中的冷卻階段的工藝優(yōu)化有利于降低能耗,提高多晶硅質(zhì)量。本文在多晶硅鑄錠常規(guī)冷卻工藝基礎(chǔ)上,通過(guò)有限元模擬方法首先考察了6條不同Tc2升溫幅值的工藝曲線,6條Tc2與Tc1不同交點(diǎn)的工藝曲線對(duì)多晶硅鑄錠中的溫度場(chǎng)、應(yīng)力場(chǎng)和位錯(cuò)密度的影響。位錯(cuò)密度的分析分別采用了CRSS位錯(cuò)模型和HAS位錯(cuò)模型。結(jié)果發(fā)現(xiàn):Tc2不經(jīng)歷升溫階段,且Tc1與Tc2交

2、點(diǎn)在800 K時(shí),多晶硅鑄錠中平均von Mises應(yīng)力、最大應(yīng)力和位錯(cuò)密度均最小。不同工藝曲線下的硅錠內(nèi)的最終應(yīng)力分布和位錯(cuò)密度分布情況基本相同,僅數(shù)值上的微小差異。HAS位錯(cuò)模型因引入了蠕變而更符合實(shí)際,HAS位錯(cuò)模型中的硬化指數(shù)取常數(shù)或變量,以及等效應(yīng)力采用CRSS模型中的表達(dá)式對(duì)結(jié)果影響較小,但硅錠上表面的幾何形狀對(duì)結(jié)果影響較大,為水平面時(shí)應(yīng)力和位錯(cuò)密度均最小。
   然后模擬考察了不同的出爐溫度點(diǎn)對(duì)硅錠中的應(yīng)力和位錯(cuò)密

3、度的影響。發(fā)現(xiàn):600 K溫度出爐為最好,高于它的650 K和700 K溫度出爐均有應(yīng)力增大,位錯(cuò)密度升高的現(xiàn)象。
   最后以小尺寸硅塊為對(duì)象,分別做了2 K/min和5 K/min冷卻速率下硅塊位錯(cuò)密度的模擬與實(shí)驗(yàn)對(duì)比分析。模擬結(jié)果表明,5 K/min冷卻條件下輻射對(duì)流狀況更加劇烈,溫差、平均von Mises應(yīng)力及位錯(cuò)增殖相對(duì)2K/min冷卻條件結(jié)果也更大。之后通過(guò)實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)5 K/min冷卻速率下總體位錯(cuò)密度升高15.4%

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論