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1、硅晶片是制造集成電路的主要部分,而且對硅晶片表面的清潔度有很高的要求,硅晶片表面常見的污染主要包括:有機(jī)物、固體顆粒和金屬離子污染等,這就需要很高的清洗技術(shù)才能保證硅片表面的潔凈度。在LCD生產(chǎn)過程中,由于液晶基片表面的殘留液晶會造成電極接觸不良,電路斷路,短路等弊病,導(dǎo)致整機(jī)報廢,損失嚴(yán)重。 采用圖像處理技術(shù)對產(chǎn)品表面進(jìn)行檢測屬于非接觸檢測,該方法融合了計算機(jī)的快速性、高效性,彌補(bǔ)了傳統(tǒng)檢測方法中存在的諸多不足,這種方法正在
2、被廣泛的應(yīng)用。針對硅片表面缺陷的特點,對其缺陷的提取技術(shù)進(jìn)行了研究,設(shè)計了多結(jié)構(gòu)元素的廣義形態(tài)閉開和形態(tài)開閉濾波器,結(jié)合改進(jìn)分水嶺算法進(jìn)行缺陷提取。濾波器對輸入圖像及濾波后圖像的梯度圖像進(jìn)行平滑,實現(xiàn)消除噪聲、簡化圖像、保持細(xì)節(jié)的作用。為了克服分水嶺的過度分割問題,提出了改進(jìn)的分水嶺算法,利用區(qū)域強(qiáng)度準(zhǔn)則和邊界強(qiáng)度準(zhǔn)則對過分割區(qū)域進(jìn)行合并,很好的解決了過分割問題。 針對液晶制品的特點,對其表面殘留液晶的提取技術(shù)進(jìn)行了研究,提出了基
3、于迭代閾值分割和數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的邊緣檢測方法從目標(biāo)區(qū)域中提取出液晶殘留。首先將原圖按坐標(biāo)分成若干子圖像,再對子圖像進(jìn)行迭代閾值分割,然后采用不同尺度的結(jié)構(gòu)元素來檢測圖像邊緣,再進(jìn)行加權(quán)合成來獲得邊緣圖像,并從理論上分析了噪聲對邊緣提取的影響情況。最后針對分割圖像,提取缺陷的形態(tài)特征、幾何特征、紋理特征等,包括目標(biāo)的面積、周長、灰度值、矩特征、熵等參數(shù),并計算出圖像中缺陷的圓形度和伸長度指標(biāo),利用這些特征設(shè)計了線性二叉樹分類器對缺陷進(jìn)行對硅片
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