磁控濺射法氧化鋅薄膜的制備和光學(xué)性能研究.pdf

1、紫外波段激光器在信息顯示和信息存儲(chǔ)方面，具有存儲(chǔ)密度高，反應(yīng)速度快等特點(diǎn)，特別是在海底探測(cè)、紫外通訊、光存儲(chǔ)、診斷防偽及檢測(cè)分析儀器等方面重要的應(yīng)用前景。氧化鋅作為一種寬帶隙半導(dǎo)體，能帶寬度為3.37eV，激子束縛能高達(dá)60meV，在室溫下容易獲得強(qiáng)的激子發(fā)射，可能成為紫外激光的重要材料；在紫外光發(fā)光二極管、激光器和探測(cè)器上的重要應(yīng)用價(jià)值。因此，氧化鋅的研究已成為繼GaN之后寬帶隙半導(dǎo)體研究的又一熱點(diǎn)。本文利用射頻磁控濺射法在玻璃襯底上

2、制備了高質(zhì)量ZnO薄膜，并對(duì)其結(jié)構(gòu)和發(fā)光性能進(jìn)行了研究，主要內(nèi)容如下： 1.通過(guò)XRD.衍射譜分析了濺射功率、襯底溫度、氧氬氣體流量比、工作氣壓對(duì)薄膜晶粒大小，取向性等結(jié)構(gòu)的影響；采用控制變量法，依次改變各主要參數(shù)，找出制備結(jié)構(gòu)缺陷密度小、薄膜晶粒取向性好的薄膜的參數(shù)。在較低功率、較低溫度下，獲得了高度C軸擇優(yōu)取向的ZnO薄膜。 2.通過(guò)對(duì)室溫光致發(fā)光譜(PL譜)的研究，分析了濺射功率、襯底溫度、氧氬氣體流量比、工作氣壓