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文檔簡介
1、本文以Ni3Al合金為基體,在混有適量Al顆粒(平均粒徑約1μm)的鍍鎳液中進(jìn)行復(fù)合電沉積,并經(jīng)后續(xù)600℃、2 h真空退火,獲得了一種新型細(xì)晶γ'-Ni3Al涂層。與同成分的粗晶合金做對(duì)比,通過研究該涂層的高溫氧化行為及在3.5%NaCl水溶液中的腐蝕行為,探討晶粒尺寸對(duì)Ni3Al抗腐蝕性能的影響。
空氣中900℃及1000℃恒溫氧化實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,與Ni3Al粗晶合金相比,細(xì)晶涂層表面可快速生長Al2O3膜,導(dǎo)致NiO的
2、生長受到抑制。其原因在于細(xì)晶涂層內(nèi)豐富的晶界增加了氧化物的形核位置,并促進(jìn)了Al向氧化前沿的快速擴(kuò)散,從而縮短了形成連續(xù)Al2O3膜所需時(shí)間。此外還發(fā)現(xiàn),細(xì)晶涂層表面形成的氧化膜與基體結(jié)合良好。
空氣中900℃循環(huán)氧化實(shí)驗(yàn)表明,與氧化層剝落嚴(yán)重的粗晶Ni3Al合金相比,細(xì)晶涂層因形成連續(xù)致密、粘附性好的Al2O3膜,抗循環(huán)氧化性能明顯提高。其原因在于該細(xì)晶結(jié)構(gòu)有利于避免大尺寸孔洞在Al2O3膜/涂層界面形成,從而提高了該界
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