高峰值功率電光調Q266nm紫外激光器的研究.pdf

1、266nm紫外激光器在工業(yè)、微加工、光刻及微刻技術、高分辨光譜學、醫(yī)學等方面都有廣泛的應用。本論文從理論和實驗兩方面對高峰值功率電光調Q266nm紫外激光器進行了研究。
　　 本研究主要內容包括：理論方面，由倍頻效率的公式理論分析了非線性晶體的走離角以及晶體長度對倍頻效率的影響。并且計算了KDP晶體和BBO晶體對532nm倍頻獲得266nm紫外激光的相位匹配角、有效非線性系數(shù)以及走離角等。對非線性紫外晶體四倍頻相關的相位匹配參數(shù)

2、進行了對比分析。實驗方面，首先對KDP晶體腔外四倍頻的高峰值功率266nm紫外激光器進行了實驗研究。采用燈泵浦Nd：YAG晶體電光調Q1064nm激光作為基頻光，腔外采用KTP晶體和KDP晶體分別二倍頻及四倍頻，在工作重復頻率為1Hz和10Hz條件下，分別獲得單脈沖能量34.9 mJ和28.9mJ的266nm紫外激光輸出，峰值功率高達4.3MW；獲得532nm到266nm轉換效率達30％。其次，對BBO晶體腔外四倍頻的266nm紫外激光