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文檔簡介
1、隨著光刻機(jī)技術(shù)水平的提高，特征線寬的尺寸減小到納米級，對光刻機(jī)對準(zhǔn)系統(tǒng)提出了更高對準(zhǔn)精度的性能指標(biāo)。本論文首先介紹了各種相位光柵對準(zhǔn)系統(tǒng)的原理和特點(diǎn)；接著闡述對準(zhǔn)信號以及系統(tǒng)中影響對準(zhǔn)信號的因素；其次分析影響相位光柵對準(zhǔn)標(biāo)記衍射效率的主要因素槽深、占空比和反射率；最后通過建立相位光柵對準(zhǔn)標(biāo)記非對稱變形的計(jì)算模型，分析標(biāo)記的各級衍射效率和對準(zhǔn)誤差：并把本文所得結(jié)果與仿真軟件結(jié)果進(jìn)行比較，兩者得到了很好的吻合。 本課題有較重大的研究
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