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文檔簡介
1、 本論文首先從理論上對微弧氧化膜層的生長過程和成膜機理進行探討。研究了包括微弧氧化的宏觀反應(yīng)現(xiàn)象、膜層生長動力學(xué)過程、微弧氧化的物理化學(xué)反應(yīng)、膜層增長機理、以及膜層的生長規(guī)律在內(nèi)共五個方面的內(nèi)容。然后通過一系列的鋁合金微弧氧化工藝實驗，研究了微弧氧化參數(shù)：基體材料、電解質(zhì)組成和濃度、正向峰值電壓、正向峰值電流、以及正負(fù)向峰值電壓比值對氧化膜層的硬度和生長速率的影響規(guī)律。最后采用掃描電鏡(SEM)和X射線衍射相結(jié)構(gòu)分析(XRD)對陶
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