基于納米壓印技術(shù)的亞波長(zhǎng)抗反射結(jié)構(gòu)光學(xué)器件研究.pdf

1、亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)光學(xué)器件因其優(yōu)越的光學(xué)特性，在空間探測(cè)、消費(fèi)電子等多個(gè)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。基于玻璃襯底的亞波長(zhǎng)抗反射結(jié)構(gòu)具有高損傷閾值、寬譜段和大視場(chǎng)等優(yōu)點(diǎn)，能改善傳統(tǒng)光學(xué)薄膜材料受限、附著力差和熱脹失配等不足，可用于高功率激光系統(tǒng)中光學(xué)元器件的表面減反。本論文主要對(duì)玻璃襯底亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的抗反射特性開展相關(guān)的理論與實(shí)驗(yàn)研究。
　　采用嚴(yán)格耦合波理論，研究二維單臺(tái)階和連續(xù)面型亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)的抗反射特性，主要分析了結(jié)構(gòu)參數(shù)及排列方式對(duì)反射率的影響

2、。針對(duì)高功率激光系統(tǒng)中的常用波段，分別設(shè)計(jì)了六角排列的圓錐面型和拋物面型亞波長(zhǎng)抗反射結(jié)構(gòu)。模擬結(jié)果表明，圓錐面型和拋物面型結(jié)構(gòu)在波段0.33-1.35μm內(nèi)分別實(shí)現(xiàn)了低于0.2%和0.3%的反射率。
　　納米壓印技術(shù)被譽(yù)為下一代光刻技術(shù)，廣泛用于亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)光學(xué)器件的制作。本論文采用熱壓印和紫外壓印工藝，分別在K9玻璃襯底上制備方形排列的圓錐面型亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)；利用熱壓印工藝制備的圓錐面型結(jié)構(gòu)的有效面積大于20mm×20mm，將波長(zhǎng)1.