電致變色WO-,x-薄膜的摻雜改性研究.pdf

1、WO<,3> 電致變色薄膜因具有著色效率高、可逆性好、響應(yīng)時(shí)間短、壽命長、成本低等優(yōu)點(diǎn)，使其在許多領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景，因此引起了科技界的高度重視，在世界范圍內(nèi)的研究異?；钴S，被認(rèn)為是最有發(fā)展前途的電致變色材料之一。但是目前它離實(shí)際大規(guī)模應(yīng)用還有一定的距離，使其真正進(jìn)入實(shí)際應(yīng)用是當(dāng)前眾多研究者努力的方向。通過多種途徑可以提高WO<,3>薄膜的電致變色性能，優(yōu)化制備工藝參數(shù)和對(duì)薄膜進(jìn)行摻雜是其中兩種有效的方法。到目前為止，制備電致變色薄

2、膜最常用的方法有溶膠一凝膠法、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相沉積法和濺射沉積法等，其中磁控濺射以沉積速率高、基片溫升低、膜層均勻性及附著力好、工藝參數(shù)易控制等優(yōu)點(diǎn)而日益成為制備電致變色薄膜尤其是W<,3>薄膜最理想的工藝方法。但是目前用磁控濺射方法制備W<,3>薄膜的報(bào)道相對(duì)較少，對(duì)該方法制備的薄膜的性能研究也很少見， 本課題研究采用磁控反應(yīng)濺射工藝，以純鎢和純鎳(鈦、釩)為靶材在ITO玻璃上制備Ni(Ti、V)摻雜W<,x>電致變色薄膜

3、，通過紫外-可見分光光度計(jì)和X射線衍射儀及XPS分析，研究了制備工藝參數(shù)對(duì)WO<,x>薄膜電致變色性能和結(jié)構(gòu)的影響，并論述了摻雜對(duì)薄膜電致變色性能的影響機(jī)理。 研究表明：用反應(yīng)磁控濺射制備的WO<,x>薄膜為非晶態(tài)，表現(xiàn)出良好的電致變色性能；而WO<,x>薄膜摻雜之后，非晶態(tài)的趨勢(shì)強(qiáng)于未摻雜的WO<,x>薄膜，結(jié)構(gòu)的變化導(dǎo)致了WO<,x>薄膜具有更好的電致變色性能；摻雜工藝對(duì)WO<,x>薄膜的電致變色性能影響較為復(fù)雜，主要與摻雜