薄膜晶體管液晶顯示器四次光刻工藝研究.pdf

1、隨著信息顯示技術的發(fā)展，顯示終端已經(jīng)由傳統(tǒng)的CRT顯示器轉(zhuǎn)變?yōu)槠桨屣@示器。具有輕、薄、無輻射及便攜式等特點的液晶顯示器已經(jīng)遍布到了我們的日常工作和生活中。經(jīng)過十幾年來的發(fā)展，TFT-LCD制造工藝也隨著產(chǎn)品設計的優(yōu)化、原材料的特性開發(fā)、設備技術的改進及工藝控制能力的提升取得了大幅度的進步。尤其是TFT的制程從最初的七次掩模光刻工藝發(fā)展到了目前成功應用于量產(chǎn)的四次掩模光刻，大大的降低了制造成本，使TFT-LCD產(chǎn)品的價格變得能被越來越的人

2、們接受。
　　本論文將在對TFT及TFT-LCD的結(jié)構(gòu)及其工作原理進行介紹的基礎上，重點闡述行業(yè)內(nèi)廣為應用的五次光刻工藝制程。通過對Gray Tone技術掩模板的研究和設計，介紹旨在降低制造成本的四次掩模光刻工藝技術的開發(fā)過程。
　　與此同時，針對工藝開發(fā)過程中Slit的設計對溝道處光刻膠的影響、Active殘留和源漏金屬殘留等課題進行了測試研究。
　　四次掩模光刻工藝技術的成功開發(fā)并用于量產(chǎn)，降低了生產(chǎn)成本，為企業(yè)取