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文檔簡(jiǎn)介
1、本論文借助“種子媒介納米金生長(zhǎng)法”,制備了新型納米金修飾玻碳電極(Au/GCE);并在此基礎(chǔ)上,將納米金粒子與自組裝膜技術(shù)相結(jié)合構(gòu)建了新型三維自組裝膜修飾電極。通過(guò)場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)、紫外-可見(jiàn)光譜分析(UV-vis)、電化學(xué)分析等測(cè)試技術(shù),對(duì)修飾電極的表面形貌、結(jié)構(gòu)以及電化學(xué)性能進(jìn)行了詳細(xì)研究;并以Au/GCE電極為基礎(chǔ),制備了系列環(huán)境電化學(xué)傳感器,成功用于水體中NO2-、多種痕量苯酚類衍生物、尿酸(UA)和抗壞血酸
2、(AA)以及Cu2+的電化學(xué)檢測(cè)。主要研究結(jié)果如下:
(1)實(shí)現(xiàn)了粒徑為50-90 nm的納米金修飾玻碳電極的制備;證明了納米金粒子能有效促進(jìn)電極表面的電子傳遞速率;發(fā)現(xiàn)L-半胱氨酸(L-cys)組裝膜的電化學(xué)氧化產(chǎn)物(L-cysoxid)在納米金修飾電極表面出現(xiàn)了氧化還原反應(yīng);[Fe(CN)6]3-/[Fe(CN)6]4-在三維自組裝膜電極表面的電子傳遞速率是二維組裝膜修飾電極的2.5倍;且納米金表面的L-cys膜組裝量
3、隨粒徑的增加而增加。
(2)Au/GCE電極對(duì)NO2-的氧化反應(yīng)表現(xiàn)出顯著的電催化活性,響應(yīng)峰電流是平面電極表面的1.6倍,并伴隨有明顯的氧化電位降低;NO2-的氧化過(guò)程受擴(kuò)散步驟控制,傳質(zhì)系數(shù)α=0.3,同時(shí)不受溶液pH的影響;在1.0×10-5-5.0×10-3 mol/L范圍內(nèi),修飾電極表面的響應(yīng)電流與NO2-濃度成很好的線性關(guān)系(r=0.9995),靈敏度為22.2 μA/mmol·L-1;Au/GCE實(shí)現(xiàn)了對(duì)實(shí)際
4、廢水中NO2-濃度的準(zhǔn)確測(cè)定,同時(shí)表現(xiàn)出良好的穩(wěn)定性、抗干擾能力和明顯的實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。
(3)Au/GCE電極對(duì)15種苯酚衍生物的電化學(xué)氧化過(guò)程表現(xiàn)出不同程度的電催化作用;與GCE和平面金電極相比,苯酚衍生物的氧化峰電流出現(xiàn)不同程度的增加,氧化電位的變化受待測(cè)物反應(yīng)活性影響較大;修飾電極實(shí)現(xiàn)了對(duì)多種水中酚類物質(zhì)的痕量測(cè)定;水楊酸在Au/GCE電極表面的響應(yīng)迅速,響應(yīng)靈敏度是GCE電極表面的1.8倍;同時(shí)建立了苯酚類衍生物在
5、Au/GCE電極表面的氧化電位與分子結(jié)構(gòu)參數(shù)之間的多元線性方程模型。
(4)Au/GCE電極對(duì)AA的氧化有明顯的電催化作用,氧化電位比GCE表面降低了100 mV;實(shí)現(xiàn)了UA和AA氧化峰170 mV的分離;兩者在修飾電極表面的分離效果受溶液pH影響顯著,酸性條件有利于兩者的同時(shí)測(cè)定;L-cysoxid/Au/GCE對(duì)AA的氧化有進(jìn)一步的電催化作用;在pH為6.4時(shí),UA和AA混合液在L-cysoxid/Au/GCE電極表面
6、實(shí)現(xiàn)了150 mV的峰電位分離;L-cysoxid/Au/GCE電極對(duì)UA和AA的分離同樣受到溶液pH的影響,但適用范圍更寬,同時(shí)比Au/GCE電極具有更好的分離效果;L-cysoxid/Au/GCE修飾電極對(duì)UA和AA有較好的響應(yīng)靈敏度,分別為10.065 μA/mmol·L-1和18.101 μA/mmol·L-1,線性檢測(cè)范圍:2.0×10-6-1.0×10-3 mol/L。
(5)Cu2+在L-cys/Au/GCE
7、表面有較好的響應(yīng)電流;該氧化還原反應(yīng)為表面控制過(guò)程,同時(shí)存在有質(zhì)子得失,修飾電極在pH為7.0時(shí)具有最佳電流響應(yīng);L-cys膜的組裝量對(duì)修飾電極的電流響應(yīng)有顯著影響;線性濃度測(cè)定范圍:1.0-500.0 μg/L;修飾電極具有良好的抗干擾能力、穩(wěn)定性和重現(xiàn)性;3-巰基丙酸(3-MPA)三維自組裝膜有效避免了溶出伏安法中的欠電位沉積(UPD)效應(yīng);pH對(duì)修飾電極同樣存在明顯的影響;在0.1-80.0 μg/L的濃度范圍內(nèi),3-MPA修飾電
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