激光直寫法制備SiO-,2--TiO-,2-條形光波導工藝與性能的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著集成光學和光通信系統(tǒng)的飛速發(fā)展,有關(guān)光波導材料和制作工藝方面的研究就顯得尤為關(guān)鍵。激光直寫技術(shù)克服了以光刻技術(shù)為核心的波導傳統(tǒng)制作技術(shù)的種種弊端,顯示了自身強大的優(yōu)越性而成為光電子器件領(lǐng)域重要的制造技術(shù)。
   本課題采用溶膠-凝膠法制備了SiO2/TiO2復(fù)合薄膜,根據(jù)SiO2/TiO2溶膠-凝膠薄膜的特點,設(shè)計并制作了以SiO2/TiO2復(fù)合薄膜為芯層,SiO2為緩沖層的硅基平板光波導。以平板光波導為基礎(chǔ),采用激光直寫技

2、術(shù)獲得了條形波導的濃縮固化圖形,并利用隨后的化學腐蝕工藝得到最終的條形光波導。同時,對條形光波導的表面粗糙度、表面形貌、結(jié)構(gòu)和通光性能進行分析測試。
   SiO2/TiO2芯層薄膜有很好的表面平整度和光學透明度。模擬計算表明SiO2/TiO2平板光波導的芯層在1550nm波長下的TE0模截止厚度為0.29μm,所需下包層厚度為6μm。平板光波導的傳輸損耗隨芯層薄膜厚度的增大而減小,實驗中獲得的平板波導的最小光傳輸損耗值為0.3

3、4 Db/cm。
   激光功率和光斑直徑是激光直寫最重要的工藝參數(shù),激光直寫SiO2/TiO2波導芯層薄膜時存在著起始收縮閾值與燒蝕損傷閾值。提高薄膜的熱處理溫度可以升高兩閾值之差,從而有助于獲得外形輪廓優(yōu)良的窄線寬條形光波導。通過優(yōu)化直寫和化學腐蝕工藝參數(shù),能得到了線度為15μm且成型良好的條形光波導,波導的橫截面輪廓接近于梯形。
   軟件模擬發(fā)現(xiàn)波導的模式數(shù)目隨其寬度的減小而顯著減少,對于寬度為30μm以內(nèi)的波導

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