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1、在ZZS700-6/G電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)上增加氧(純度99.99﹪)離子源輔助鍍膜設備后，采用低價態(tài)氧化物Ti2O3作為蒸發(fā)材料制備光學用的氧化鈦薄膜?？疾炝穗x子源的各項參數(shù)、通入O2的流量和退火處理對薄膜結構和光學性能的影響。同時采用XRD對不同的蒸發(fā)源物質與蒸發(fā)剩余物質進行了詳細的研究和對比，分析了材料的蒸發(fā)過程對薄膜的形成和性能的影響。 用UV755B型分光光度計測試了薄膜的透射光譜，并通過干涉極值計算方法獲得了薄膜的折射
2、率等參數(shù)。實驗表明，以Ti2O3作為蒸發(fā)源物質時，薄膜具有強烈的吸收，離子源輔助有利于形成高價態(tài)氧化物。但是，隨著薄膜厚度的增加，離子源的作用變得不明顯。采用TiO2作為蒸發(fā)源物質時，薄膜具有較好的光學性能，在可見光范圍內薄膜的折射率變化在2.23-2.73，離子源工藝對薄膜的光學性能影響不大。通過對蒸發(fā)物質蒸發(fā)行為的研究發(fā)現(xiàn)，在Ti-O系中存在同一蒸發(fā)相Ti3O5，蒸發(fā)物質經過蒸發(fā)后最終將以此相相同的成分蒸發(fā)。退火處理有利于介穩(wěn)態(tài)的薄
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