鋼基表面氧化鋁薄膜制備的研究.pdf_第1頁(yè)
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1、磁控濺射法制備Al<,2>O<,3>薄膜具有高沉積速率、成膜質(zhì)量好等特點(diǎn),尤其是成膜溫度低,不影響基材的性能,所以很適用于金屬表面改性。但資料表明,國(guó)內(nèi)在鋼基上制備Al<,2>O<,3>薄膜的研究報(bào)道較少。本文主要研究鋼基上用射頻磁控濺射法制備A1l<,2>O<,3>薄膜。 本實(shí)驗(yàn)采用Al<,2>O<,3>作為靶材,用射頻磁控濺射的方法,通過(guò)調(diào)節(jié)濺射功率,濺射氣壓,濺射時(shí)間等工藝參數(shù),在40Cr基體上制備了Al<,2>O<,3>

2、薄膜,借助SEM、X射線衍射、傅立葉紅外光譜等測(cè)試手段,分析了薄膜的表面形貌、組織結(jié)構(gòu)、成分,鍵合等情況。通過(guò)摩擦磨損和劃痕等試驗(yàn)研究了濺射工藝參數(shù)、預(yù)處理工藝和Ni-P中間層對(duì)薄膜摩擦系數(shù)和結(jié)合力的影響。 研究結(jié)果表明:濺射態(tài)制備的Al<,2>O<,3>薄膜為非晶態(tài),傅立葉紅外光譜證實(shí)了薄膜中Al-O鍵的存在;用射頻磁控濺射方法,濺射功率為250W,時(shí)間為3小時(shí),氣壓為5.0Pa,時(shí)制備的薄膜表面光滑致密,結(jié)合力良好。基體的腐

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