激光照排技術光柵光閥設計和制作.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、浙江大學信息學院碩士學位論文激光照排技術光柵光閥設計和制作姓名：耿煜申請學位級別：碩士專業(yè)：光學工程指導教師：白劍20081101AbstractLasertypesetterusescomputertoeditthetypesetting，makingtheinformationofthebookbecomethelatticeinformationTheMEMS(Microelectro—mechanicalsystem)devic

2、eGLV(GratingLightValve)isintroducedtoactastheopticalmodulatorofthelasertypesetterAGLVismadeupofnumbersofunits，SOitiseasytofabricatelotsofpixelsusingthetechniqueofmicro—fabricationInaddition，theswitchingspeedoftheGLVisver

3、yfast，makingitpossibletoscanfastandincreasethespeedMoreover，thesubstrateofGLVisSiliconwhichcouldbearthebigintensityofthelaserusedinthelasertypesetterThisdissertationshowstheopticalandelectromechanicalprincipleofGLVandbas

4、edontheopticalprinciple，introducesthesimplifiedmodelofGLVTheprocessofmicro—fabricationisveryimportanttoGLVInordertosolvetheproblemsencounteredinthefabricationofGLVthisdissertationintroducestheprincipleofthinfilmandthepro

5、cessesofphotolithographyphotoresistandetchinganddiscussestheproblemsandmethodsforsolvingthemDuetothesmalllinewidthofGLVitisimportanttokeepthepatternandgoodadhesionofphotoresistByexperimentsandanalyticalanalysis，thisdisse

6、rtationputsforwardthemethodsforsolvingtheseproblemsThemainreasonofthephotoresistdeformationafterthephotoresiststopsflowistheshrinkageofphotoresistandshrinkagedifferencebetweentheedgeandnonedgeofthephotoresistinhardbake，w

7、hichiscausedbythehighexothermicityoftheresincuringprocessandthelowthermalconductivityofthephotoresistThetemperatureofnonedgeofthephotoresistishigherthanthatoftheedgeandalsohigherthanthebakingtemperatureThetemperaturedist

8、ributionismeasuredwiththeinfraredthermographyandsimulatedbyatwodimensionalsimulation，bothofwhichshowthatthesurfacedeformationishighlyrelatedtothephotoresistthicknessandbakingtemperatureExperimentsresultsdemonstratethatth

9、esurfacedeformationcanbeovercomebyproperbakingprocessThesourcesoftheinternalstressofthephotoresistcouldbetheshrinkageofphotoresistduringthecuringprocessandtheshrinkagedifferencebetweenthephotoresistandthesubstrateDuetoth

10、ehighexothermicityoftheresincuringprocess，thetemperatureofthephotoresistisnotuniform，whichcausestheshrinkagedifferenceinthephotoresistThemethodthatdelayaftersoftbakeandannealafterhardbakecouldpromotetheadhesionTheline—wi

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