具有二元光學(xué)校正元件的反射式光學(xué)系統(tǒng)研究.pdf

1、二元光學(xué)是基于光波的衍射理論，利用計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)，并利用微電子技術(shù)中的超大規(guī)模集成電路制作工藝，在片基上（或傳統(tǒng)光學(xué)元件表面）刻蝕產(chǎn)生多個(gè)臺(tái)階深度的浮雕結(jié)構(gòu)的衍射光學(xué)元件的一門(mén)前沿交叉學(xué)科。二元光學(xué)元件具有體積小、重量輕、設(shè)計(jì)自由度多、材料可選性寬、色散性能獨(dú)特及衍射效率高等優(yōu)點(diǎn)，現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于紅外光學(xué)系統(tǒng)、光纖通信、全息顯示、光學(xué)掃描、圖像識(shí)別和圖像處理、生物醫(yī)學(xué)、國(guó)防軍事等領(lǐng)域。將二元光學(xué)技術(shù)應(yīng)用于航天光學(xué)遙感系統(tǒng)，有助于減小系統(tǒng)的

2、體積和重量，提高系統(tǒng)的性能，降低系統(tǒng)的成本。
　　本文圍繞二元光學(xué)在成像系統(tǒng)設(shè)計(jì)中的相關(guān)理論，設(shè)計(jì)了具有二元光學(xué)校正元件的離軸三反射鏡光學(xué)系統(tǒng)。二元光學(xué)元件擴(kuò)大了系統(tǒng)的視場(chǎng)，使之達(dá)到4°×3°，成像質(zhì)量接近衍射極限。
　　本文的主要內(nèi)容包括：光學(xué)系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)的確定，傳統(tǒng)反射式光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)，具有二元光學(xué)校正元件的反射式光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)，二元光學(xué)元件對(duì)像差校正作用的分析以及二元光學(xué)元件制作誤差對(duì)衍射效率的影響的分析。