電子簾加速器長陰極下垂對電子束分布影響的研究.pdf

1、電子簾加速器是一種低能電子加速器，廣泛應(yīng)用于薄膜輻照及涂層固化。在實際工業(yè)應(yīng)用中，輻照幅度較寬的材料時需要較長的陰極，這樣陰極下垂撓度增大，電子束發(fā)散使輻照質(zhì)量降低。北京機械工業(yè)自動化研究所曾經(jīng)研制了一臺陰極長為500ram的電子簾加速器，電子密度分布均勻度好于±10％，但是對更長陰極電子簾加速器的電子束分布均勻度并沒有做進一步的研究。本文著重討論陰極下垂對電子束流縱向分布影響。 論文從電場的改變、柵極縫透鏡效應(yīng)焦距的改變以及電

2、子發(fā)射密度改變等方面分析了陰極下垂對電子縱向分布的影響。 對CST軟件的算法、網(wǎng)格劃分、電子源設(shè)定以及運行參數(shù)等進行了研究，以使能夠在現(xiàn)有設(shè)備的基礎(chǔ)上得到最好的結(jié)果。 完整地模擬了一種情況下的電子縱向分布，并對其結(jié)果進行分析發(fā)現(xiàn)隨陰極下垂最終在鈦窗上的電子數(shù)量并不隨之單調(diào)減少。 力圖通過改變柵極電壓及聚焦極形狀來改善電子縱向分布，因此模擬了不同柵極電壓及不同聚焦極形狀的電子縱向分布并將結(jié)果比較，最終認為僅通過改變