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1、I脹:DC5:蘭!蘭冀ji垃東南大碩士掌位論文選擇性化學鍍鎳實驗研究研究生姓名:童丞照導師姓名:撻睦齷豇數(shù)撞墮重3熬援£|【請學位級別—』型越匾一學科專業(yè)名稱—j刪盤是盤玨理吐一f、論文提交日期29Q生!且論文簪辯目期—墊堂皇望月r皇t且—~學位授予單位盔畝太掌學位擐予吲期二__墊鯉圭L童——且一答辯蠶員會主席—』龜鱉堡—一評閱^————垂超墮=——。,二二二耋婆噩L一2006年3月AbstractExperimentalResearc
2、honSelectiveElectrolessNickelPlatingByYuanChengchanSupervisedbyLinXiaohniandChanYonfciMechanicalEngineeringDepartmentSoutheastUnivzrsityAbstractEk℃trolessplatingplaysanimportantroteinmodernsarf∞eengineeringElectrolessdep
3、ositiOllisa$t1rfaceamocamly虹credoxprocessPrctrcatmantofthesubstratesurfacehasadecisiveinfluenceduringthewholeprocessC㈣tly。electrolessdepositionofn把詛_lshasmanyapplicationsinmicroandnanotechnologiesn塘investigationsofnanosu
4、tlctLlleSfabricatedonsiliconwaferforthedevelopmentofnanodeviceshavebeenreportedsuccessivelyInthiswork鋤experimentofselectiveelectrolessnickeldeposifiononsiliconwaferinaqueoussolutionwascarriedouLSelectiveNidepositionwaSpe
5、rformedbyusinglasefablatingprocessThismethodpresentsarelativelysimpleprocessforfabricationofnighaspectratiomcmUicstructuresE1cctrolessmethodsoffernighquaJityultraihinfilmsthatarecompatiblewithhighresolutionpatternsinphot
6、osensitivepolyimideprocessAwiderangeofstudieshaveinvestigatedtheelectrolessnickel(EN)platingmechanism。SeveralreactionpathshavebeenproposedwhichweredevelopedfromplatingrammeasurementsDespitethelargenumberofinvestigationst
7、hedepositionkineticsissofarnotwellestablishedAnempiricalrateequationbasedonnonsteadystatediffusionoftheelectrolessNiplayershasbe∞developedElectrolessnickel(El∞depositionbathisknowntohaveamajorproblemofsuddenbathdecomposi
8、tionwnichresultsin鋤increaseintheoperatingcostoftheprocessandthegenerationofenvironmentallyhazardouswasteBathstabilizersarenormallyaddedtoextenditslifeAproperstabilizationsTstemwillprohibittheselfdecompositiontoenhancAthe
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