2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、ZnO是一種Ⅱ-Ⅵ族化合物半導(dǎo)體材料,屬于六方纖鋅礦結(jié)構(gòu),(002)晶面的表面自由能最低,因而ZnO通常具有[0001]取向性生長。作為一種直接帶隙寬禁帶半導(dǎo)體材料,ZnO最具潛力的應(yīng)用是在光電器件領(lǐng)域。ZnO的禁帶寬度為3.37eV,激子結(jié)合能為60meV,遠高于其它寬禁帶半導(dǎo)體材料,如GaN為25meV,ZnO激子在室溫下也是穩(wěn)定的,可以實現(xiàn)室溫或更高溫度下高效的激子受激發(fā)光,所以,ZnO在短波長光電器件領(lǐng)域有著極大的應(yīng)用潛力,如紫

2、藍光發(fā)光二極管(LEDs)和激光器(LDs)等,可作為白光的起始材料。另外摻入ⅢA族元素Al、In、Ga等可以實現(xiàn)各方面性能都很好的n型ZnO薄膜,如非常低的電阻率,最低可達到10-4數(shù)量級;非常高的可見光范圍的透過率,可達到90%以上;制備的薄膜高度的c軸擇優(yōu)取向等;可以作為很好的LEDs的接觸電極。 本課題是利用直流磁控反應(yīng)濺射在玻璃襯底上制備ZnO:Ga透明導(dǎo)電薄膜,并利用多種測試手段分析了其性能,獲得了一些結(jié)果:

3、 1.用大型無機原型設(shè)備直流磁控反應(yīng)濺射儀在玻璃襯底上制備了ZnO:Ga透明導(dǎo)電薄膜。XRD測試表明制備的薄膜具有良好的c軸擇優(yōu)取向,并且證明了薄膜中的Ga是以替位式取代了六角晶格中的部分Zn原子的位置或者Ga原子彌散在薄膜晶粒間區(qū)域。 2.SEM顯示制備的薄膜表面致密化程度高,結(jié)構(gòu)完整。Hall測試得出薄膜的電阻率低、遷移率和載流子濃度高,并且薄膜與電極的接觸為歐姆接觸。透射譜分析得到薄膜在可見光范圍內(nèi)的透過率達到90%以上。

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