高溫脅迫對(duì)柑橘光合機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn)的影響.pdf_第1頁(yè)
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1、該試驗(yàn)以抗熱性不同的兩個(gè)柑橘品種:三年生枳砧溫州蜜柑(Citrus unshiu Marc.)早宮川和臍橙(Citrus sinensis Osbeck.)朋娜盆栽苗為試驗(yàn)材料,在25℃的條件下預(yù)培養(yǎng)10d后,仍以25±1℃下培養(yǎng)25d為對(duì)照,另以38±2℃的環(huán)境下培養(yǎng)15d,然后再在25±1℃下培養(yǎng)10d作為高溫脅迫和恢復(fù)處理,研究了高溫脅迫對(duì)柑橘葉片光合機(jī)構(gòu)運(yùn)轉(zhuǎn)的影響,以及植株本身的自我保護(hù)機(jī)理.在恢復(fù)階段,我們對(duì)植株葉片噴以0.0

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