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1、程品晶 (cheng-pj@nhu.edu.cn) 核科學(xué)技術(shù)學(xué)院,放射物理學(xué),第六章 高能電子束射野劑量學(xué),高能電子束應(yīng)用于腫瘤的放射治療始于上世紀(jì)50年代初期。 據(jù)估計(jì)約15%的患者在治療過(guò)程中要應(yīng)用高能電子束。 計(jì)劃設(shè)計(jì)要求在給予靶區(qū)足夠劑量的同時(shí),必須注意保護(hù)正常器官。,加速器,,,偏轉(zhuǎn)磁鐵,,散射片,電子束治療,鎢靶,,均整器,擴(kuò)大和均勻射野,X射線(xiàn)治療,,,加速器治療機(jī)產(chǎn)生的射線(xiàn),對(duì)于醫(yī)用直線(xiàn)加速器,經(jīng)加
2、速和偏轉(zhuǎn)后引出的電子束,束流發(fā)散角很小,基本是單能窄束,必須加以改造,才能用于臨床。,第一節(jié) 治療電子束的產(chǎn)生,改造方法主要有兩種:,利用散射箔展寬電子束。,利用電磁偏轉(zhuǎn)原理展寬電子束。,,方法之一:利用散射箔展寬電子束 根據(jù)電子束易于散射的特點(diǎn),將其射束展寬。所用散射箔材料的原子序數(shù)和厚度,要依據(jù)電子束能量選擇。散射箔可以有效地將電子束展寬到臨床所需要的最大射野范圍。電子束通過(guò)散射箔展寬后,先經(jīng)x射線(xiàn)治療準(zhǔn)直器,再
3、經(jīng)電子束限光筒形成治療用射野。,電子束經(jīng)x射線(xiàn)準(zhǔn)直器及電子限光筒壁時(shí),也會(huì)產(chǎn)生散射電子,從而改變電子束的角分布并使其能譜變寬,從而改善射野均勻性,使其劑量建成區(qū)的劑量顯著增加,但隨限光筒到表面的距離的增加而影響減少。,將單一散射箔改用為雙散射箔系統(tǒng),可進(jìn)一步改善電于束的能譜和角分布。第一散射箔的作用,是利用電子穿射時(shí)的多重散射,將射束展寬;第二散射箔類(lèi)似于x射線(xiàn)系統(tǒng)中的均整器,增加射野周邊的散射線(xiàn),使整個(gè)射線(xiàn)束變得均勻平坦。使用雙散射箔
4、系統(tǒng),電子束限光筒可不再使用單一散射箔通常采用的封閉筒壁式結(jié)構(gòu)而改用邊框式,此時(shí)邊框式限光筒僅起確定射野大小(幾何尺寸)的作用。,可以減少或避免因電子束穿過(guò)散射箔時(shí)產(chǎn)生的x射線(xiàn)污染,它采用類(lèi)似電視光柵式掃描或螺旋式掃描的方法,將窄束電子打散,從而使電于束展寬。其特點(diǎn)是能譜窄,劑量跌落的梯度更為陡峭,較低的x射線(xiàn)污染等。,方法之二:利用電磁偏轉(zhuǎn)原理展寬電子束。,第二節(jié) 電子束射野劑量學(xué),高能電子束的特點(diǎn):,(1)高能電子束具有有限的射程
5、,可以有效地避免對(duì)靶區(qū)后深部組織的照射。這是高能電子束最重要的劑量學(xué)特點(diǎn);,(3)隨著電子束限光筒到患者皮膚距離的增加,射野的劑量均勻性迅速變劣、半影增寬;,(2)易于散射,皮膚劑量相對(duì)較高,且隨電子能量的增加而增加;,(4)百分深度劑量隨射野大小特別在射野較小時(shí)變化明顯;(5)不均勻組織對(duì)百分深度劑量影響顯著;(6)拉長(zhǎng)源皮距照射時(shí),輸出劑量不能準(zhǔn)確按平方反比定律計(jì)算;(應(yīng)考慮有效源皮距)(7)不規(guī)則射野輸出劑量的計(jì)算,仍
6、存在問(wèn)題。,基于高能電子束的上述特點(diǎn),它主要用于治療表淺或偏心的腫瘤和浸潤(rùn)的淋巴結(jié)。,一、中心軸百分深度劑量曲線(xiàn),1、百分深度劑量曲線(xiàn)的特點(diǎn) 圖6-5示出了模體內(nèi)電子束中心軸百分深度劑量的基本特性及有關(guān)參數(shù)。,Ds:入射或表面劑量,以表面下0.5mm處的 劑量表示;Dm:最大劑量點(diǎn)劑量;R100:最大劑量點(diǎn)深度;Dx:電子束中x射線(xiàn)劑量;Rt(R85):有效治療深度,即治療劑量規(guī)定
7、 值(如85%Dm)處的深度;,有關(guān)參數(shù):,R50:50%Dm或半峰值處的深度(HVD);Rp:電子束的射程;Rq:百分深度劑量曲線(xiàn)上,過(guò)劑量跌落最陡 點(diǎn)的切線(xiàn)與Dm水平線(xiàn)交點(diǎn)的深度。,高能電子束的百分深度劑量分布,大致可分為四部分:,劑量建成區(qū),高劑量坪區(qū),劑量跌落區(qū),x射線(xiàn)污染區(qū),,與高能x(γ)射線(xiàn)相比,高能電子束的劑量建成效應(yīng)不明顯,表現(xiàn)為:,表面劑量高,一般都在75%~85%以上,并隨能量
8、增加而增加;,隨著深度的增加,百分深度劑量很快達(dá)到最大點(diǎn);,然后形成高劑量“坪區(qū)”。,這主要是由于電子束在其運(yùn)動(dòng)徑跡上,很容易被散射,使得單位截面上電子注量增加。,劑量趺落是臨床使用高能電子束時(shí)極為重要的一個(gè)概念。,記為,G=Rp/(Rp-Rq),該值一般在2.0~2.5之間。,用劑量梯度G表示:,任何醫(yī)用加速器產(chǎn)生的電子束都包含有一定數(shù)量的X射線(xiàn),從而表現(xiàn)為百分深度劑量分布曲線(xiàn)后部有一長(zhǎng)長(zhǎng)的“拖尾”。 電子束在經(jīng)過(guò)散射箔、監(jiān)測(cè)
9、電離室、x射線(xiàn)準(zhǔn)直器和電子限光筒裝置時(shí),與這些物質(zhì)相互作用,產(chǎn)生了X射線(xiàn)。 對(duì)采用散射箔系統(tǒng)的醫(yī)用直線(xiàn)加速器,x射線(xiàn)污染水平隨電子束能量的增加而增加。,(1)能量的影響,2、百分深度劑量的影響因素,電子束百分深度劑量分布隨電子束能量的改變有很大變化。,基本特點(diǎn)是:由于電子束易于散射,所以隨著射線(xiàn)能量的增加,表面劑量增加,高劑量坪區(qū)變寬,劑量梯度減小,X射線(xiàn)污染增加,電子束的臨床劑量學(xué)優(yōu)點(diǎn)逐漸消失。,電子束能量愈低,電子束
10、愈易于被散射,散射角愈大,劑量建成更迅速,距離更短。表面劑量相對(duì)于最大劑量點(diǎn)劑量的比值,低能電子束要小于高能電子束。 這一現(xiàn)象的最簡(jiǎn)單解釋?zhuān)鐖D6-8所示。對(duì)于相同入射的電子注量(cm-2),低能電子束的劑量跌落要比高能電子束的更陡。,綜上所述,為了充分發(fā)揮高能電子束的上述特點(diǎn),臨床中應(yīng)用的高能電子束,其能量應(yīng)在4~25 MeV范圍。,低能時(shí),因射程較短,射野對(duì)百分深度劑量的影響較??; 對(duì)較高能量的電子束,因射
11、程較長(zhǎng),使用較小的照射野時(shí),相當(dāng)數(shù)量的電子被散射出照射野,百分深度劑量隨射野的變化較大。當(dāng)照射野增大時(shí),較淺部位中心軸上電子的散射損失被照射野邊緣的散射電子補(bǔ)償逐漸達(dá)到平衡,百分深度劑量不再隨射野的增加而變化。一般條件下,當(dāng)照射野的直徑大于電子束射程的二分之一時(shí),百分深度劑量隨照射野增大而變化極微。,(2)照射野的影響,(3)源皮距 的影響,當(dāng)源皮距不同時(shí),一些主要參數(shù)的變化規(guī)律,主要表現(xiàn)為:當(dāng)限光筒至皮膚表面的距
12、離增加時(shí),表面劑量降低,最大劑量深度變深,劑量梯度變陡,X射線(xiàn)污染略有增加,而且高能電子束較低能電子束變化顯著。造成這一現(xiàn)象的主要原因,是由于電子束有效源皮距的影響和電子束的散射特性。由于電子束百分深度劑量隨源皮距變化的這一特點(diǎn),要求臨床應(yīng)用中,除非特殊需要,應(yīng)保持源皮距不變,否則要根據(jù)實(shí)際的臨床使用條件,具體測(cè)量百分深度劑量有關(guān)參數(shù)的變化。,高能電子束等劑量分布的顯著特點(diǎn)為:隨深度的增加,低值等劑量線(xiàn)向外側(cè)擴(kuò)張,高值等劑量線(xiàn)向內(nèi)側(cè)收縮
13、,并隨電子束能量而變化。,二、電子束的等劑量分布,特別是能量大于7MeV以上時(shí),后一種情況更為突出。,,除能量的影響外,照射野大小也對(duì)高值等劑量線(xiàn)的形狀有所影響。右圖中,其90%等劑量線(xiàn)的底部形狀,由弧形逐漸變得平直。,造成原因:主要是電子束易于散射的特點(diǎn)。,選取一個(gè)特定平面用于定義和描述電子束照射野均勻性、平坦度和半影。,三、電子束射野均勻性及半影,通過(guò) 深度與射野中心軸垂直的平面。,電子束射野均勻性表示:均勻性指數(shù),
14、,100cm2以上的照射野,此比值應(yīng)大于0.70,即沿射野邊和對(duì)角線(xiàn)方向90%,50%等劑量線(xiàn)的邊長(zhǎng)之比L90/L50≥0.85,同時(shí)必須避免在該平面內(nèi)出現(xiàn)峰值劑量超過(guò)中心劑量的3%的劑量“熱點(diǎn)”,它所包括的面積的直徑應(yīng)小于2cm。,(ICRU建議),(面積之比),P80/20 (由特定平面內(nèi)80%與20%等劑量曲線(xiàn)之間的距離確定。)一般條件下,當(dāng)限光筒到表面距離在5 cm以?xún)?nèi),能量低于10MeV的電子束,半影約為10~12mm;
15、能量為10~20MeV的電子束,半影約為8~10mm;而當(dāng)限光筒到表面距離超過(guò)10cm時(shí),半影可能會(huì)超過(guò)15mm。,電子束的物理半影,四、電子束的“虛源”及有效源皮距,“虛源”:加速管中一窄束加速的電子束,經(jīng)偏轉(zhuǎn)穿過(guò)出射窗、散射箔、監(jiān)測(cè)測(cè)電離室、限束系統(tǒng)等而擴(kuò)展成一寬束電子束,好像從某一位置(或點(diǎn))發(fā)射出來(lái),此位置(或點(diǎn))稱(chēng)為電子束的“虛源”位置。,影響虛源位置的因素很多,對(duì)同一能量的電子束,射野大小亦會(huì)影響它的位置。因此,不能用虛源到
16、表面的距離去準(zhǔn)確校正延長(zhǎng)源皮距后輸出劑量的變化。實(shí)際臨床上,用的是電子束有效源皮距來(lái)準(zhǔn)確校正。,將電離室放置于水模體中射野中心軸上量大劑量點(diǎn)深度dm。 首先,使電子束限光筒接觸水表面,測(cè)得電離室讀數(shù)I0, 然后,不斷改變限光筒與水表面之間的空氣間隙g,至約20cm,得到相對(duì)不同空氣間隙g的一組數(shù)據(jù)Ig,,,測(cè)量電子束有效源皮距的方法:,如果電子束的輸出劑量率隨源皮距的變化循平方反比定律,則有:,或,由
17、相對(duì)于g可作一直線(xiàn),則有效源皮距f等于:,,電子束有效源皮距隨輻射能量和射野大小而變化。這一變化是由于不同能量和照射野條件下,電子束散射不同的緣故。,高能電子束,其劑量分布特點(diǎn)如下:,小結(jié):,(1)從皮膚表面到一定的深度,劑量高且分布比較均勻,隨著能量增加,此深度也不斷增加。表面劑量大小依能量不同而不同:能量低,表面劑量低;能量高,表面劑量高。 如7MeV,表面劑量為85%;18MeV,表面劑量為98%。因而不能保護(hù)皮膚。,(
18、2)在一定的深度之后,劑量突然下降。如果臨床醫(yī)生將病變選在80%區(qū)域內(nèi),則病變后正常組織的受量極小。但是隨著能量不斷增加,此特點(diǎn)逐漸消失,對(duì)45MeV電子束,此特點(diǎn)幾乎全部失去。因此,電子加速器的電子能量選得過(guò)高是沒(méi)有實(shí)際意義的,一般最有用的電子能量選在25MeV以?xún)?nèi)。,(3)不同的照射野對(duì)百分深度劑量有影響:低能時(shí),射野影響較小;高能時(shí),射野影響很大,即射野增大,深度劑量增加。,(4)其等劑量分布曲線(xiàn)的特點(diǎn):隨深度的增加,低值等劑量線(xiàn)
19、向外側(cè)擴(kuò)張,高值等劑量線(xiàn)向內(nèi)側(cè)收縮,并隨電子束能量、射野而變化。 對(duì)于大射野,曲線(xiàn)中心部分與入射表面平行,不論入射面是平的還是彎曲的。這一點(diǎn)對(duì)臨床醫(yī)生考慮不規(guī)則表面入射時(shí),很有好處。,臨床應(yīng)用時(shí)應(yīng)注意兩個(gè)問(wèn)題:,第三節(jié) 電子束治療的計(jì)劃設(shè)計(jì),(1)照射時(shí)應(yīng)盡量保持射野中心軸垂直于入射表面,并保持限光筒端面至皮膚的正確距離。 這是由于電子束的等劑量分布曲線(xiàn)極易受到諸如人體曲面、斜入射和空氣間隙的影響。,(2)
20、一些重要?jiǎng)┝繉W(xué)參數(shù),必須進(jìn)行實(shí)際測(cè)量,得到針對(duì)所使用的機(jī)器類(lèi)型和具體照射條件下的實(shí)驗(yàn)數(shù)值,為臨床作計(jì)劃設(shè)計(jì)時(shí)提供參考。 百分深度劑量、輸出劑量等,會(huì)隨照射條件的改變發(fā)生較大的變化,這些變化雖然可以采用數(shù)學(xué)的方法進(jìn)行校正,但必須進(jìn)行實(shí)際測(cè)量。,不同能量的電子束具有不同的有效治療深度。臨床用它來(lái)治療表淺的、偏體位一側(cè)的病變時(shí),具有高能X(γ)射線(xiàn)所不能及的突出優(yōu)點(diǎn):?jiǎn)我罢丈?,靶區(qū)劑量均勻,靶區(qū)后正常組織和器官劑量很小。,一、能量
21、和照射野的選擇,電子束的有效治療深度(cm)約等于1/3-1/4電子束的能量(MeV)。,如果靶區(qū)后部的正常組織的耐受劑量較高,可以90%等劑量線(xiàn)包括靶區(qū)來(lái)選擇射線(xiàn)能量;如果耐受劑量低,可以80%(甚至70%左右)等劑量線(xiàn)來(lái)選擇射線(xiàn)能量。(乳腺癌的術(shù)后治療),臨床中,一般應(yīng)根據(jù)靶區(qū)深度,靶區(qū)劑量的最小值及危及器官可接受的耐受劑量等因素綜合考慮。,照射野大小的選擇原則:確保特定的等劑量曲線(xiàn)完全包圍靶區(qū)。電子束高值等劑量曲線(xiàn),隨深度增加
22、而內(nèi)收,在小野時(shí)此現(xiàn)象尤為突出.因此,表面位置的照射野,應(yīng)按靶區(qū)的最大橫徑而適當(dāng)擴(kuò)大。根據(jù)L90/L50≥0.85的規(guī)定,所選電子束射野應(yīng)至少等于或大于靶區(qū)橫徑的1.18倍。并在此基礎(chǔ)上,根據(jù)靶區(qū)最深部分的寬度的情況將射野再放0.5~1.0cm。,電子束治療經(jīng)常遇到的一個(gè)問(wèn)題是,由于患者治療部位皮膚表面的彎曲,或由于擺位條件的限制,致使電子束限光筒的端面不能很好平行和接觸于皮膚表面,引起空氣間隙和形成電子束的斜入射,導(dǎo)致電子束等劑量分布
23、曲線(xiàn)的畸變。,二、電子束的斜入射校正,校正方法:,電子束斜入射校正幾何參數(shù)示意圖,,斜入射校正因子:表示射線(xiàn)束斜入射與垂直入射的劑量比值。其值可查表(表6-1)。,校正公式:,,斜入射校正因子,利用電子束的筆形束模型,可以對(duì)電子束斜入射進(jìn)行較為精確的校正。 右圖給出了12MeV電子束照射圓柱形固體模體時(shí),計(jì)算的劑量分布與測(cè)量的劑量分布的比較。,電子束斜入射對(duì)劑量分布的影響,虛線(xiàn)為計(jì)算值 實(shí)線(xiàn)為膠片法測(cè)量值,,電子束在不均勻性
24、組織如骨、肺和氣腔中,其劑量分布會(huì)發(fā)生顯著變化,應(yīng)對(duì)其校正。校正方法:等效厚度系數(shù)法(CET法)。如果計(jì)算位于厚度為Z的不均勻性組織后的某一點(diǎn)深度d處的劑量,應(yīng)先計(jì)算該點(diǎn)的等效深度deff :,三、組織不均勻性校正,(1) deff=d+Z×CET-Z = d+Z(CET-1),CET由不均勻組織對(duì)水的相對(duì)電子密度求得。,然后,經(jīng)平方反比 定律 校正,可得到該點(diǎn)劑量。,CET值的范圍:l.l(疏松骨)-1.65(致
25、密骨)。肺組織,平均約為0.5,并依賴(lài)于在肺組織中的深度。,f:有效源皮距,(2),電子束照射胸壁,不作肺修正和用筆形束模型作肺修正時(shí)的劑量分布情況。,校正不均勻組織對(duì)劑量分布的影響的較精確的計(jì)算方法是,使用以多級(jí)散射理論為基礎(chǔ)的計(jì)算模型,如筆形束模型等。,電子束的補(bǔ)償技術(shù)用于: ①補(bǔ)償人體不規(guī)則的外輪廓; ②減弱電子束的穿透能力; ③提高皮膚劑量。,四、電子束的補(bǔ)償技術(shù),胸壁照射的
26、示例:不加補(bǔ)償時(shí),肺前緣的劑量較高(80%),并有一高劑量區(qū)(139%);沿胸壁填加補(bǔ)償材料,并有意增加高劑量區(qū)位置處補(bǔ)償材料的厚度,既降低了肺前緣的受量,又減弱了高劑量區(qū)的劑量。,圖6-29 電子束照射胸壁的劑量分布,未加補(bǔ)償材料,填加補(bǔ)償材料,臨床常用的補(bǔ)償材料有石蠟、聚苯乙烯和有機(jī)玻璃。 石蠟易于成形,能很緊密地敷貼于人體表面,避免或減少補(bǔ)償材料與皮膚間的空氣間隙,常被用作類(lèi)似胸壁照射時(shí)的補(bǔ)償材料。 聚苯乙烯和有機(jī)
27、玻璃可制成不同厚度的平板,在一些特殊照射技術(shù)中,如電子束全身皮膚照射,用它作電子束能量的衰減材料時(shí),因其有效原子序數(shù)較低,不會(huì)增加因軔致輻射產(chǎn)生的x射線(xiàn)成分。,對(duì)一些特殊部位的病變的照射,如全腦全脊髓照射中的脊髓野,乳腺癌術(shù)后的胸壁照射野等,因單一電子束射野不可能包括整個(gè)靶區(qū),需要采用多個(gè)相鄰野銜接構(gòu)成大野進(jìn)行照射,必須恰當(dāng)處理,避免靶區(qū)內(nèi)超、欠劑量的發(fā)生。,五、電子束照射野的銜接技術(shù),根據(jù)射線(xiàn)束寬度隨深度變化的特點(diǎn),在皮膚表面相鄰野之
28、間,或留有一定的間隙,或使兩野共線(xiàn),最終使其50%等劑量曲線(xiàn)在所需深度相交,形成較好的劑量分布。 具體采取何種方式銜接,要依據(jù)所使用的電子能量的電子射野的等劑量分布情況 下圖給出了7MeV和16MeV電子束兩野銜接或重疊、或共線(xiàn)、或間隔時(shí),等劑量曲線(xiàn)分布的情況。,(一)電子束照射野銜接的基本原則,注意:用于確定相鄰射野銜接方式的等劑量曲線(xiàn),一般是在均勻模體內(nèi)測(cè)得的。 但在實(shí)際使用過(guò)程中,由于患者曲面及體內(nèi)組織的影響
29、,劑量分布會(huì)因人而異,所以在整個(gè)治療過(guò)程中,經(jīng)常變換其銜接位置,以避免固定位置銜接造成過(guò)高或過(guò)低的劑量。,臨床中,特別是在頭頸部腫瘤的治療時(shí),會(huì)遇到這種銜接問(wèn)題。采用的方法一般采用兩照射野在皮膚表面共線(xiàn)相交。這會(huì)使得X(γ)射線(xiàn)照射野一側(cè)出現(xiàn)劑量熱點(diǎn),電子束一側(cè)出現(xiàn)劑量冷點(diǎn)。其原因是由于電子束照射野產(chǎn)生的側(cè)向散射。劑最的冷、熱點(diǎn)還同時(shí)受到電子束源皮距的影響,源皮距延長(zhǎng),空氣間隙的增加,使得電子束等劑量曲線(xiàn)變得較標(biāo)稱(chēng)條件下的更加彎曲,冷,
30、熱點(diǎn)劑量區(qū)域變寬。,(二)電子束和X(γ)射線(xiàn)照射野的銜接,9MeV電子束和6MVx射線(xiàn)照射野在皮膚表面共線(xiàn)銜接時(shí)的劑量分布。,電子束為標(biāo)稱(chēng)源皮距照射,電子束源皮距延長(zhǎng)至120cm,(三)楔形板在照射野銜接中的作用 靶區(qū)范圍較大,治療深度不同時(shí),在兩個(gè)照射野相鄰的邊緣,放置用聚苯乙烯等組織替代材料制成的楔形板,改變射野邊緣的劑量分布,使包括銜接部位的整個(gè)靶區(qū)的劑量分布均勻。,圖6-32 利用聚苯乙烯楔形板改善照射野邊緣的劑量分
31、布,以實(shí)現(xiàn)照射野的銜接,總結(jié): 決定相鄰照射野是否共線(xiàn)或留有間隙,前提是使靶區(qū)劑量分布盡量均勻。由于電子束治療的腫瘤大多位于表淺部位,治療的深度較淺,同時(shí)在治療區(qū)域內(nèi)往往沒(méi)有重要的敏感器官存在,因此,在注意了可能會(huì)出現(xiàn)的劑量熱點(diǎn)的位置、范圍后,如若臨床可以接受,則電子束的相鄰照射野(包括與X(γ)射線(xiàn)照射野相鄰),就可在皮膚表面共線(xiàn)銜接。,臨床應(yīng)用中,為適合靶區(qū)的形狀并保護(hù)周?chē)恼=M織,一般用附加鉛塊改變限光筒的標(biāo)準(zhǔn)照射野
32、為不規(guī)則野。 附加鉛塊可固定在限光筒的末端,也可直接放在患者體表被遮擋位置。,六、電子束照射野的擋鉛技術(shù),從不同能量電子束在鉛介質(zhì)中的衰減情況,可以看出,鉛厚度的微小變化,都會(huì)對(duì)電子束的劑量有很大的影響。 如果擋鉛厚度過(guò)薄,因其散射增加的部分可能會(huì)大于衰減的部分,使得劑量不僅不會(huì)減少,反而會(huì)有所增加。,(一)擋鉛厚度的確定,一般情況下,擋鉛厚度應(yīng)略大于所需要的最小鉛厚度值。但在有些情況下,特別在射野內(nèi)遮擋時(shí),如照射
33、眼瞼部位的腫瘤,為保護(hù)晶體,鉛擋過(guò)厚使用起來(lái)不方便,而取最小鉛厚度值的臨界值。,擋鉛厚度的正確選擇,要依據(jù)不同能量的電子束在擋鉛材料中的穿射曲線(xiàn)來(lái)進(jìn)行。穿射曲線(xiàn)的測(cè)量,一般采用平行板電離室.在固體模體內(nèi)進(jìn)行.由于穿射劑量的最大貢獻(xiàn)主要發(fā)生在表淺部位, 因此測(cè)量深度不應(yīng)超過(guò)5mm。另外,測(cè)量應(yīng)在寬束條件下,以適應(yīng)臨床使用的所有照射野。,最低的鉛擋厚度(以mm為單位)應(yīng)是電子束能量(以MeV為單位)數(shù)值的二分之一。同時(shí)從安全考慮,可將鉛擋
34、厚度再增加l mm。,完全阻止不同能量電子束所需的擋鉛厚度,不同型號(hào)的加速器,,,用電子束治療某些部位的病變,如嘴唇、耳翼等,常需要用內(nèi)遮擋以保護(hù)正常組織。在擋鉛和組織接觸的界面處產(chǎn)生電子束的反向散射,使其界面處的劑量大約增加30%~70%。,(二)電子束的內(nèi)遮擋,定義為組織—遮擋界面處的劑量與均勻組織中同一位置劑量之比。經(jīng)驗(yàn)公式為:,電子反向散射因子EBF(electron backscatter factor,EBF),表示電子
35、束反向散射的強(qiáng)弱,不同能量和遮擋介質(zhì)的電子反向散射因子情況:,(1)隨遮擋介質(zhì)的有效原子序數(shù)z的增高而增大;(2)隨界面處電子平均能量的增加而減小。,臨床上為消弱電子反向散射的影響,作內(nèi)遮擋時(shí),在鉛擋與組織之間加入一定厚度的低原子序數(shù)材料,如有機(jī)玻璃等。其作用是:(1)本身產(chǎn)生的反向散射低;(2)可以吸收擋鉛所產(chǎn)生的反向散射。,不同能量電子束內(nèi)遮擋引起的反向散射因子隨遮擋材料有效原子序數(shù)的變化:,用于界面間填塞的材料厚度為2g
36、183;cm-2左右。,(三)擋鉛對(duì)劑量參數(shù)影響,下圖給出了在Philips SL75-14直線(xiàn)加速器上,測(cè)試所得到的電子束百分深度劑量和射野輸出因子隨擋鉛的變化規(guī)律。,①標(biāo)準(zhǔn)電子束限光筒足夠大(如6 cm~6cm以上)時(shí),不同能量電子束的百分深度劑量不受限光筒大小的影響;擋鉛所形成的照射野,在較高能量(12-14 MeV)條件下,照射野小于8 cm×8cm時(shí),治療深度變淺,劑量梯度變?。惠^低能量(≤10MeV)時(shí)沒(méi)有顯著變化
37、。,特點(diǎn)為:,②標(biāo)準(zhǔn)電子束限光筒的輸出因子,在不同能量條件下,變化很大(最大為23.2%),且沒(méi)有規(guī)律性;擋鉛所形成的照射野,射野輸出因子變化的規(guī)律性明顯,即照射野越小,輸出因子越大[與高能X(γ)射線(xiàn)恰恰相反],較低能量時(shí)變化?。s1.0%),較高能量時(shí)變化大(約6.0%)。,③對(duì)較高能量的電子束,擋鉛確定的照射野,即使和標(biāo)準(zhǔn)限光筒大小一致,在小野(如6cm×6cm)條件下,輸出因子的差別為16.8%,90%劑量深度R90相
38、差約6mm,劑量梯度也由固定限光筒的2.2變?yōu)?.9。 上述擋鉛的劑量學(xué)效應(yīng),對(duì)不同類(lèi)型及廠(chǎng)家的加速器來(lái)說(shuō),呈類(lèi)似的規(guī)律性,但有變化幅度上的差別。由于不同機(jī)器的電子束限束系統(tǒng)和限光筒設(shè)計(jì)上的差異,臨床應(yīng)用時(shí),應(yīng)對(duì)其規(guī)律和變化進(jìn)行實(shí)際測(cè)量。,3. 電子束治療的計(jì)劃設(shè)計(jì)能量和照射野的選擇,斜入射校正,有效治療深度,組織不均勻性校正,補(bǔ)償技術(shù),擋鉛技術(shù),照射野的銜接,小結(jié):,1. 治療電子束的產(chǎn)生 散射箔作用,電磁偏轉(zhuǎn)展
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