β二酮類金屬有機前驅(qū)體原子層沉積金屬薄膜.pdf

1、近年來在現(xiàn)代納米科技中，三維共形沉積的貴金屬和過渡金屬薄膜由于其具有高熔點、高化學穩(wěn)定性、高強度、良好的延展性、抗氧化性、耐腐蝕性、高催化活性以及良好的導電性等物理化學特性,而被應用于微電子、光學、電極材料、燃料電池、氣敏元件和航空航天等高新技術和軍工技術的各個領域，因此探究三維共形沉積貴金屬和過渡金屬薄膜具有重要的現(xiàn)實意義和實用價值。
　　本課題采用原子層沉積的方法，以β二酮類金屬有機前驅(qū)體（乙酰丙酮、氟化的乙酰丙酮）為金屬源，

2、在硅片上沉積貴金屬(Ir、Pd、Pt)和過渡金屬（Cu）。針對Kemicro-TALD-100A型號的熱型原子層沉積設備對固體粉末源出源差的問題，對沉積設備進行升級和優(yōu)化，研究長周期對銥和鈀薄膜生長的影響，尋求沉積金屬銥薄膜更優(yōu)的解決方案。借助X射線衍射（XRD）、能譜測試（EDS）、X射線電子能譜（XPS）、掃描電鏡（SEM）、原子力顯微鏡（AFM）等手段對金屬薄膜的結構、形貌進行研究。
　　通過研究，取得以下成果：
　　

3、1.在熱型原子層沉積設備上增加源瓶增壓裝置，并對粉塵裝的金屬源設計了過濾系統(tǒng)，避免了儀器管道的污染。在該設備上沉積貴金屬(Ir、Pd、Pt)和過渡金屬（Cu）薄膜。結果表明，沉積在襯底上的Ir、Pt、Pd均為金屬單質(zhì)而Cu中含有一定量的氧化物，可能由于銅暴露空氣中被氧化的原因。
　　2.研究長周期對銥和鈀薄膜生長的影響。在500周期時，銥和鈀薄膜以島狀生長模式占主導，在800周期時，生長模式以二維層狀為主導；800周期的銥和鈀金屬