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1、《材料表面界面和微結(jié)構(gòu)分析表征》復(fù)習(xí)提綱緒論掌握現(xiàn)代分析技術(shù)的原理、特點和分類。作業(yè)與思考:試述體分析表面分析和微區(qū)分析的概念并舉例.第一章表面科學(xué)與表面分1.了解表面分析儀的組成、各部分的功能和要求;2.掌握X射線發(fā)射機理、命名、譜線波長和相對強度變化規(guī)律。3.掌握電子能量分析器工作原理以及表述方法。作業(yè)與思考:1.畫圖并通過數(shù)學(xué)推導(dǎo)詳述CHA電子能量分析的工作原理;2.畫圖并說明特征X射線發(fā)射機理;3.畫圖并說明特征X射線的命名、譜
2、線波長和相對強度的變化規(guī)律。第二章俄歇電子能譜1.掌握Auger效應(yīng),Auger躍遷的過程和Auger電子的命名2.了解Auger電子能譜的認識3.掌握決定Auger峰能量的因素4.了解Auger峰精細結(jié)構(gòu)與化學(xué)狀態(tài)分析5.掌握Auger信號強度與AES定量分析(概念、方法和公式等)。作業(yè)與思考:第三章X射線光電子譜1XPS和AES分析的特點對比2掌握XPS基本X光電子產(chǎn)生和能量關(guān)系3掌握XPS譜圖認識:主結(jié)構(gòu)和產(chǎn)生機理4化學(xué)位移及化學(xué)
3、狀態(tài)分析5掌握靈敏度因子法XPS定量分析(概念、方法和公式等)。作業(yè)與思考:1.Auger電子和X光電子的動能各由哪些因素決定?Auger電子能量只與激發(fā)過程中涉及的原子軌道有關(guān),X光電子的能量還與入射源的能量有關(guān)。2.如何區(qū)別Auger電子和X光電子峰餓歇e峰位與入射源能量無關(guān)X光e峰位與入射源能量有關(guān)因此,換入射源后,峰位不變的是Auger電子峰,而峰位移動的是X光電子峰。3.AES定量分析中的相對靈敏度因子與XPS中的靈敏度因子有
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