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1、在對(duì)無(wú)氰電鍍技術(shù)現(xiàn)狀進(jìn)行了深入了解與分析的基礎(chǔ)上,研究了浸鋅溫度、添加劑、鋅鹽及多元合金化等因素對(duì)無(wú)氰浸鋅過(guò)程的影響,對(duì)比分析了不同配方浸鋅溶液的浸鋅效果;用掃描電鏡(SEM)觀察了不同浸鋅液配方浸鋅后試片浸鋅膜的微觀形貌,用能量色散X射線熒光儀(EDX)定量測(cè)定了浸鋅膜組成成分的質(zhì)量百分比;通過(guò)CHI600B電化學(xué)工作站測(cè)定了腐蝕電位隨浸鋅時(shí)間的變化關(guān)系,并對(duì)電鍍后的試件進(jìn)行附著力測(cè)試從而確定了無(wú)氰浸鋅工藝的最佳配方及工藝條件。
2、 本研究主要有以下內(nèi)容和研究結(jié)果: 1、通常,無(wú)氰浸鋅液中需添加兩種或兩種以上的添加劑以改善浸鋅液的性能,實(shí)驗(yàn)選取了葡萄糖酸鈉、硝酸納、單乙醇胺及乙撐硫脲等做添加劑,利用掃描電鏡、X-射線能譜儀及CHI600B電化學(xué)工作站,研究了絡(luò)合劑和抑制劑對(duì)浸鋅過(guò)程的影響。結(jié)果表明絡(luò)合劑對(duì)浸鋅過(guò)程有明顯影響,葡萄糖酸鈉和硝酸鈉配合使用時(shí)效果較好,單乙醇胺則使浸鋅層粗化;硝酸鈉作為緩蝕劑,對(duì)一次浸鋅穩(wěn)定電位有較大影響,其較好的含量范圍為
3、1.0~3.0g/L;抑制劑可以有效控制浸鋅反應(yīng)速率,有效降低浸鋅層中鋅及其他金屬元素的含量,使結(jié)晶細(xì)化。 2、為了優(yōu)化無(wú)氰浸鋅工藝以獲得在高硅鋁合金上結(jié)合力良好的鍍層,研究了ZnO及Zn(SO4)2、Zn(NO3)2等不同陰離子鋅鹽對(duì)浸鋅過(guò)程穩(wěn)定電位和置換層結(jié)晶形貌的影響,并通過(guò)不同鋅鹽的對(duì)比試驗(yàn)進(jìn)一步測(cè)驗(yàn)了抑制劑的作用。獲得的優(yōu)化無(wú)氰浸鋅配方為:80.0 g/L NaOH,12.5 g/L NiCl2,0.6 g/L Cu
4、SO4,0.8 g/LFeCl3,25.0 g/L Zn(NO3)2,1.00 g/LNaNO3,12.50 g/L葡萄糖酸鈉,0.20g/L乙撐硫脲。結(jié)果表明Zn(NO3)2的浸鋅效果最好,得到相對(duì)薄而細(xì)致均勻的浸鋅薄膜;硝酸鋅與絡(luò)合劑、抑制劑配合使用時(shí)浸鋅效果最佳,所得鍍層附著性能良好。 3、利用掃描電鏡、X射線能譜儀及CHI600B電化學(xué)工作站,研究了溫度對(duì)鋁合金浸鋅過(guò)程中穩(wěn)定電位和置換層微觀形貌的影響,考察了鍍層的附著
5、性能。結(jié)果表明隨浸鋅溫度的升高,浸鋅過(guò)程穩(wěn)定電位正移,有利于結(jié)晶細(xì)化,25℃時(shí)得到的浸鋅膜致密均勻,光滑連續(xù),且浸鋅層中Zn元素含量較低,F(xiàn)e、Cu、Ni含量適中;隨溫度的繼續(xù)升高,穩(wěn)定電位負(fù)向移動(dòng),鋅膜質(zhì)量變差;當(dāng)溫度高于35℃時(shí),浸鋅膜出現(xiàn)脫落;電位-時(shí)間測(cè)試實(shí)驗(yàn)表明,20℃和30℃時(shí)浸鋅過(guò)程發(fā)生異常反應(yīng),穩(wěn)定電位出現(xiàn)較大的負(fù)向移動(dòng),25℃時(shí)穩(wěn)定電位較正,且達(dá)到穩(wěn)定電位的時(shí)間較短;鍍層附著力試驗(yàn)表明20℃-30℃范圍內(nèi)鍍層附著性能良
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