天津理工大學電氣電子工程實習報告_第1頁
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文檔簡介

1、電氣電子工程電氣電子工程實習報告實習報告姓名:學號:專業(yè):電子科學與技術腐蝕摩擦薄膜、超導薄膜、磁性薄膜、光學薄膜,以及各種具有特殊功能的薄膜,是一種十分有效的薄膜沉積方法,在各個工業(yè)領域應用非常廣泛。磁控濺射的工作原理是指:在一相對穩(wěn)定真空狀態(tài)下,陰陽極間產生輝光放電,極間氣體分子被離子化而產生帶電電荷電子在電場E的作用下,在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產生出Ar和新的電子;新電子飛向基片,Ar在電場作用下加速飛向陰極靶,

2、并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產生的二次電子會受到電場和磁場作用,產生E(電場)B(磁場)所指的方向漂移,簡稱EB漂移,其運動軌跡近似于一條擺線。若為環(huán)形磁場,則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動,它們的運動路徑不僅很長,而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內,并且在該區(qū)域中電離出大量的Ar來轟擊靶材,從而實現(xiàn)了高的沉積速率。隨著碰撞次數(shù)的增加,二次電子的能量消耗殆盡,

3、逐漸遠離靶表面,并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低,傳遞給基片的能量很小,致使基片溫升較低。磁控濺射是入射粒子和靶的碰撞過程。入射粒子在靶中經歷復雜的散射過程,和靶原子碰撞,把部分動量傳給靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成級聯(lián)過程。在這種級聯(lián)過程中某些表面附近的靶原子獲得向外運動的足夠動量,離開靶被濺射出來。磁控濺射技術比蒸發(fā)技術的粒子能量更高,膜基結合力更好,“磁控濺射離子鍍膜技術”就是在普通磁控濺射技術的

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