TiO2復(fù)合納米膜電場條件下抗菌性能研究.pdf

1、隨著人類在科學(xué)上的進(jìn)步，人類戰(zhàn)勝了許多由細(xì)菌和病毒等微生物給人類帶來的疾病，但是新的病毒層出不窮，細(xì)菌和微生物的不斷變異和進(jìn)化使得病毒的傳播途徑也多種多樣。例如被譽(yù)為非洲死神的“埃博拉”病毒，以及覆蓋全球的“寨卡”病毒等等，各種抗菌產(chǎn)品的研發(fā)也隨之增加。其中效果最卓著的莫過于半導(dǎo)體材料光催化滅菌了，其主要有以下幾點(diǎn)優(yōu)勢:第一，能夠有效殺滅抑制細(xì)菌;第二，夠降解滅菌后的殘留有毒物質(zhì)轉(zhuǎn)化成無害的CO2、 H2O和無機(jī)物;第三，解決了菌種進(jìn)化

2、產(chǎn)生抗藥性的問題。
　　在本文常用的光催化殺菌的半導(dǎo)體材料中，普遍都存在利用可見光效率低和載流子復(fù)合較快等問題，這樣就會影響到光催化殺菌的效率。在本論文中，本文選擇TiO2復(fù)合納米膜進(jìn)行殺菌特性的測試，復(fù)合材料選擇In2O3，這是因為對于TiO2的研究無論國內(nèi)還是國外都比較深入，In2O3會拓寬TiO2的吸收光譜范圍，并且In2O3具有較強(qiáng)的導(dǎo)電能力。在異質(zhì)結(jié)雙層膜兩端施加電場，異質(zhì)膜在電場的條件下內(nèi)建場的形成能夠使光照后產(chǎn)生的電

3、子-空穴對有效分離得到加強(qiáng)。本論文通過X射線衍射對單層TiO2薄膜和TiO2復(fù)合納米膜測試其晶相結(jié)構(gòu)，還通過原子力顯微鏡和掃描電鏡分析了薄膜的表面形貌，通過光譜儀分析了薄膜的光吸收特性。
　　本文選取了熱處理溫度為400℃、450℃、500℃、550℃的單層TiO2薄膜和TiO2復(fù)合納米膜，在相同實(shí)驗條件下進(jìn)行了多組抗菌性能研究。從研究結(jié)果得出隨著熱處理溫度的升高，薄膜的抗菌性能也隨之升高。TiO2復(fù)合納米膜相對于單層TiO2薄膜