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文檔簡介
1、隨著半導體工藝的持續(xù)發(fā)展,晶體管的截止頻率和最大工作頻率不斷提升。根據(jù)國際半導體技術藍圖(ITRS)報導,CMOS晶體管的截止頻率在2021年有望達到0.9THz,毫米波集成電路設計逐漸受到業(yè)界和學術界的重點關注。
共面波導(CPW)作為微波電路設計中最基本的無源器件,具有低損耗和特性阻抗變化范圍廣等優(yōu)點。在毫米波集成電路設計中,CPW既能作為最基本的互連線,也能在匹配電路中作為電容和電感使用。所以,如果在電路設計中可以得到精
2、準的CPW模型,就可以大大提高毫米波集成電路性能。
但是目前,CPW的研究存在兩個問題:高頻下的電磁場(EM)仿真不準確;在片測試數(shù)據(jù)去嵌誤差大。由于這兩個問題無法解決,CPW的等效電路模型在毫米波頻段的精度一直不能滿足電路設計的要求。
本文從優(yōu)化EM仿真、改進去嵌算法和建立新型等效電路模型三個方面對CPW進行了深入的研究。具體內(nèi)容概括如下:
1.在GaAs和CMOS工藝平臺上對CPW的結構及參數(shù)特性進行了
3、深入研究。一方面通過 EM仿真,確定歐姆接觸等金屬層與襯底之間的位置關系;另一方面,對由頻率升高及工藝偏差所引起的電導率和介電常數(shù)的變化,從仿真角度進行了反向推導。在此基礎上,優(yōu)化相應的CPW仿真模型參數(shù)使得該仿真模型在0.1-220GHz范圍內(nèi)與實測結果很好的吻合,為后續(xù)的去嵌算法研究及等效模型分析提供準確的仿真數(shù)據(jù)的支持,同時,為電路設計提供有力的CAD輔助。
2.提出了一種基于EM仿真的去嵌算法。該算法無需設計額外的去嵌
4、結構,可以節(jié)省芯片面積并大大降低流片成本。通過與多種去嵌算法的對比可以發(fā)現(xiàn),論文提出的去嵌算法,其性能優(yōu)于開路去嵌和開路短路去嵌算法,與目前主流的 thru去嵌和 Mangan去嵌算法效果相當。由于所提出的算法不需要預留去嵌結構,所以其使用要比 thru和 Mangan去嵌更為靈活。
3.基于現(xiàn)有的三種傳輸線模型,對GaAs和SMIC65nm兩種工藝下CPW分別建立了相應的共面波導等效電路模型,并在傳統(tǒng)經(jīng)驗公式和實測結果的基礎
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